[发明专利]足底压力调节装置有效

专利信息
申请号: 201910064113.0 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN109527697B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 马文锋;于海峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: A43B7/14 分类号: A43B7/14;A43B3/00;G01L1/18
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 刘进
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 足底 压力 调节 装置
【权利要求书】:

1.一种足底压力调节装置,其特征在于,包括气体管路和多个调节单元,每个所述调节单元上设有气囊,每个所述气囊连接至所述气体管路;

所述调节单元包括执行单元和设置在所述执行单元下方的传感单元,

所述执行单元包括所述气囊,所述气囊设有与所述气体管路相连的排气口,所述排气口处设有电磁开关;

所述传感单元包括压电传感器和设置在所述压电传感器上下两侧的第一电极和第二电极,所述第一电极与所述第二电极分别连接至所述电磁开关的正负极,所述电磁开关包括设置在排气口侧面的第一电磁装置和磁体单元,所述第一电磁装置与所述磁体单元相对设置,所述第一电极与所述第二电极分别连接至所述第一电磁装置的正负极。

2.根据权利要求1所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述磁体单元包括第一永磁体和弹性件,所述第一永磁体和所述弹性件依次设置在所述排气口上方;所述第一永磁体极性方向与所述第一电磁装置极性方向相反。

3.根据权利要求2所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述磁体单元还包括固定框架,所述固定框架包覆所述第一永磁体、所述弹性件和所述排气口。

4.根据权利要求1所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述磁体单元包括设置在所述排气口上方的第二电磁装置,所述第二电磁装置两侧分别连接有第三电极与第四电极,所述第三电极与所述第四电极外接电源。

5.根据权利要求4所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述磁体单元还包括设置在所述排气口下方的第二永磁体。

6.根据权利要求5所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述第二永磁体极性方向与所述第一电磁装置、所述第二电磁装置极性方向相同。

7.根据权利要求1-6任一所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述压电传感器为压电薄膜传感器。

8.根据权利要求7所述的足底压力调节装置,其特征在于,所述压电薄膜传感器为PVDF压电薄膜传感器。

9.根据权利要求1-6任一所述的足底压力调节装置,其特征在于,还包括储气装置,所述储气装置通过所述气体管路连接至每个所述气囊。

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