[发明专利]一种渐变中性密度滤光片的制作方法

权利要求书

1.一种渐变中性密度滤光片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)根据目标渐变中性密度滤光片的技术要求，选择满足初始要求的固定中性密度滤光片作为基片；

2)将所述目标渐变中性密度滤光片与所述基片进行比较，计算获得激光在所述基片表面的清洗图案；

3)根据步骤2)中计算获得的清洗图案，控制激光器在所述基片表面进行激光加工作业；

所述步骤2)将所述目标渐变中性密度滤光片与所述基片进行比较，计算获得激光在所述基片表面的清洗图案，具体为：

I)根据目标渐变中性密度滤光片的透射率要求，计算获得所述基片中关键节点位置对应的表面膜系去除量；

Ⅱ)根据目标渐变中性密度滤光片的具体光照信息，计算获得所述基片在各相邻关键节点间过渡区域的表面膜系去除量；

Ⅲ)根据步骤I)中计算获得的关键节点位置对应的膜系去除量以及步骤Ⅱ)中计算获得的各相邻关键节点间过渡区域的膜系去除量，获得所述基片的表面膜系去除量与旋转角度之间的对应关系曲线；

Ⅳ)根据步骤Ⅲ)中获得的表面膜系去除量与旋转角度之间的对应关系曲线，计算获得所述基片各位置对应的激光刻蚀线路、条数以及各激光刻蚀线路间搭接的情况，进而确定激光在所述基片表面的清洗图案。

2.根据权利要求1所述渐变中性密度滤光片的制作方法，其特征在于，所述根据目标渐变中性密度滤光片的透射率要求，计算获得所述基片中关键节点位置对应的表面膜系去除量中采用线性计算。

3.根据权利要求1所述渐变中性密度滤光片的制作方法，其特征在于，所述具体光照信息包括：光照位置以及光照尺寸。

4.根据权利要求1所述渐变中性密度滤光片的制作方法，其特征在于，所述根据目标渐变中性密度滤光片的具体光照信息，计算获得所述基片在各相邻关键节点间过渡区域的表面膜系去除量中采用线性计算。