[发明专利]一种双坩埚

权利要求书

1.一种双坩埚，包括：外坩埚和内坩埚，所述外坩埚和所述内坩埚同心套装设置，所述外坩埚位于所述内坩埚的外侧，其特征在于，所述内坩埚包括：内坩埚本体；所述内坩埚本体具有沿轴向贯穿其两端的通孔；

所述内坩埚本体的外径，自所述内坩埚本体轴向的中部，向两端增加。

2.根据权利要求1所述的双坩埚，其特征在于，所述内坩埚本体包括依次设置的第一坩埚体和第二坩埚体，所述内坩埚本体为一体成型，或者由所述第一坩埚体与所述第二坩埚体连接而成；

所述第一坩埚体的外径，自所述内坩埚本体轴向的中部向一端增加，所述第二坩埚体的外径，自所述内坩埚本体轴向的中部向另一端增加；

所述第一坩埚体具有沿轴向贯穿其两端的第一通孔，所述第二坩埚体具有沿轴向贯穿其两端的第二通孔，所述第二通孔与所述第一通孔相连通、形成所述内坩埚本体的通孔。

3.根据权利要求2所述的双坩埚，其特征在于，所述第一坩埚体和所述第二坩埚体均为圆台形状。

4.根据权利要求2所述的双坩埚，其特征在于，所述第一坩埚体的侧面为内凹或外凸的曲面；

所述第二坩埚体的侧面为内凹或外凸的曲面。

5.根据权利要求2所述的双坩埚，其特征在于，所述第一坩埚体和所述第二坩埚体形状和大小均相同。

6.根据权利要求2所述的双坩埚，其特征在于，所述内坩埚本体具有至少一个连接通孔，所述至少一个连接通孔在所述内坩埚本体的轴向上靠近所述第一坩埚体与所述第二坩埚体的结合处、且环绕所述内坩埚本体的中心轴线均匀分布。

7.根据权利要求6所述的双坩埚，其特征在于，所述连接通孔的孔径小于等于孔径阈值范围。

8.根据权利要求6或7所述的双坩埚，其特征在于，所述外坩埚具有相连接的侧壁和底壁，所述侧壁与所述内坩埚同轴设置，所述内坩埚位于所述侧壁与底壁围合成的空间内、且承载于所述底壁上，所述至少一个连接通孔开设于靠近所述底壁的第一坩埚体。

9.根据权利要求1所述的双坩埚，其特征在于，沿所述内坩埚本体的轴向，所述内坩埚本体的壁厚相同。

10.根据权利要求1所述的双坩埚，其特征在于，沿所述内坩埚本体的轴向，所述内坩埚本体的通孔直径相同。