[发明专利]激光直写系统

说明书

本发明提供了一种激光直写系统，包括服务器及第一终端，所述服务器上部署有数据处理模块，所述第一终端上部署有用户主程序、套刻对准模块、运动控制模块、曝光计量控制模块及图形发生模块，所述服务器与所述第一终端通过局域网络进行通信连接，所述用户主程序分别与所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块通信连接，且将所述服务器中的数据处理模块的存储硬盘通过局域网络映射到所述第一终端上，以作为所述服务器与所述第一终端的共用存储盘。本发明提供的一种激光直写系统，能够降低软件后期维护的复杂性，并降低数据处理程序过于占用资源的影响，提升用户主程序流畅度。

技术领域

本发明涉及激光直写光刻技术领域，尤其涉及一种激光直写系统。

背景技术

激光直写光刻技术无需中间掩膜曝光环节，直接在基片上绘制出所需图案，与传统掩膜版曝光光刻每改变一次图形就需要重新制作掩膜版相比，大大方便了科研人员，降低了生成制作成本。

但是在方便用户的同时也增加了自身系统的复杂程度，典型激光直写系统包含有光学成像、运动控制、曝光计量控制、套刻对准、数据处理等子系统。一方面，针对不同的客户机型系统的硬件选型又存在差异，因此对于上位软件来讲需要适配不同的硬件类型，这给软件编写与后期的维护带来了一定的复杂性。另一方面，由于典型激光直写系统采用DMD作为图形发生器，该系统数据分辨率高(百纳米)、写入幅面大，因此在写入图形数据光栅化转换时极其占用计算机CPU资源与存储器资源，经常会引起系统卡顿，导致用户上位软件运行流畅度降低。

针对上述问题，本领域技术人员一直在寻求解决办法。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种激光直写系统，能够降低软件后期维护的复杂性，并降低数据处理程序过于占用资源的影响，提升用户主程序流畅度，使得用户采购多台设备时，数据资源可共享复用，降低用户成本。

本发明提供一种激光直写系统，所述激光直写系统包括服务器及第一终端，所述服务器上部署有数据处理模块，所述第一终端上部署有用户主程序、套刻对准模块、运动控制模块、曝光计量控制模块及图形发生模块，所述服务器与所述第一终端通过局域网络进行通信连接，所述用户主程序分别与所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块通信连接，且将所述服务器中的数据处理模块的存储硬盘通过局域网络映射到所述第一终端上，以作为所述服务器与所述第一终端的共用存储盘。

具体地，所述激光直写系统的软件采用.Net Remoting技术框架，所述用户主程序通过接口函数实现与所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块的功能调用。

具体地，所述用户主程序、所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块通过.Net Remoting技术均可运行于不同终端上，且不同终端之间通过网络通信进行协调工作。

具体地，所述用户主程序，用于接收用户输入的加工任务信息，并将所述加工任务信息传输至第一终端的所述共用存储盘中。

具体地，所述数据处理模块，用于接收所述用户主程序发送的数据处理指令，以根据所述数据处理指令对所述加工任务信息进行数据处理得到加工任务文件及任务参数，并将所述加工任务文件和所述任务参数存储至所述共用存储盘中。

具体地，所述用户主程序，还用于根据所述任务参数处理得到套刻对准信息，并将所述套刻对准信息发送至所述套刻对准模块；所述套刻对准模块，用于根据所述套刻对准信息执行套刻对准操作。

具体地，所述用户主程序，还用于根据所述任务参数处理得到曝光计量参数，并将所述曝光计量参数发送至所述曝光计量控制模块；所述曝光计量控制模块，用于根据所述曝光计量参数执行曝光计量的设置。