[发明专利]一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃及其制备方法在审
申请号: | 201910019890.3 | 申请日: | 2019-01-09 |
公开(公告)号: | CN109455947A | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 简明德;王乾廷;董俊豪 | 申请(专利权)人: | 福建工程学院 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
地址: | 350000 福建省福州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防雾 自洁 玻璃 复合膜层 隔热镀膜 中间层 基板 内层 制备 氟化类金刚石 二氧化硅层 类金刚石层 二氧化硅 隔热功能 膜层 | ||
1.一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,包括基板,基板的表面上设有复合膜层,复合膜层由内之外依序包括内层、中间层和外层,其特征在于:所述内层为二氧化硅层,中间层为二氧化硅+类金刚石层,外层为氟化类金刚石层。
2.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述二氧化硅层的厚度为20-50nm。
3.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述二氧化硅+类金刚石层的厚度为10-30nm。
4.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述氟化类金刚石层的厚度为50-80nm。
5.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述基板的厚度为3-7mm。
6.根据权利要求1所述的玻璃的制备方法,其特征在于:所述制备方法包括以下步骤:
1)用清洗机对基板进行清洗;
2)内层:将基板送入镀膜室,射频磁控溅射二氧化硅层,基板的温度为25-60℃,负偏压100-150V,工作气压0.2-1Pa,基板转速2-8rpm,二氧化硅靶电流2-4A,氩气流量为15-25mL/min,溅射时间为45-135min,射频功率为100-300W,二氧化硅靶与基板间距离为40-60 mm;
3)中间层:继续射频磁控溅射二氧化硅+类金刚石层,基板的温度为25-60℃,负偏压100-150V,工作气压0.2-1Pa,基板转速2-8rpm,二氧化硅靶电流2-4A,碳靶电流2-4A,氩气流量为15-25mL/min,溅射时间为10-50min,射频功率为100-300W,二氧化硅靶、碳靶与基板间距离均为40-60 mm;
4)外层:继续射频磁控溅射氟化类金刚石层,基板的温度为25-60℃,负偏压100-150V,工作气压0.2-1Pa,基板转速2-8rpm,碳靶电流2-4A,CHF3气流量为5-10mL/min,氩气流量为15-25mL/min,溅射时间为10-50min,射频功率为100-300W,碳靶与基板间距离为40-60 mm。
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