[发明专利]一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910019890.3 申请日: 2019-01-09
公开(公告)号: CN109455947A 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 简明德;王乾廷;董俊豪 申请(专利权)人: 福建工程学院
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 350000 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 防雾 自洁 玻璃 复合膜层 隔热镀膜 中间层 基板 内层 制备 氟化类金刚石 二氧化硅层 类金刚石层 二氧化硅 隔热功能 膜层
【权利要求书】:

1.一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,包括基板,基板的表面上设有复合膜层,复合膜层由内之外依序包括内层、中间层和外层,其特征在于:所述内层为二氧化硅层,中间层为二氧化硅+类金刚石层,外层为氟化类金刚石层。

2.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述二氧化硅层的厚度为20-50nm。

3.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述二氧化硅+类金刚石层的厚度为10-30nm。

4.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述氟化类金刚石层的厚度为50-80nm。

5.根据权利要求1所述的一种自洁、防雾、隔热镀膜玻璃,其特征在于:所述基板的厚度为3-7mm。

6.根据权利要求1所述的玻璃的制备方法,其特征在于:所述制备方法包括以下步骤:

1)用清洗机对基板进行清洗;

2)内层:将基板送入镀膜室,射频磁控溅射二氧化硅层,基板的温度为25-60℃,负偏压100-150V,工作气压0.2-1Pa,基板转速2-8rpm,二氧化硅靶电流2-4A,氩气流量为15-25mL/min,溅射时间为45-135min,射频功率为100-300W,二氧化硅靶与基板间距离为40-60 mm;

3)中间层:继续射频磁控溅射二氧化硅+类金刚石层,基板的温度为25-60℃,负偏压100-150V,工作气压0.2-1Pa,基板转速2-8rpm,二氧化硅靶电流2-4A,碳靶电流2-4A,氩气流量为15-25mL/min,溅射时间为10-50min,射频功率为100-300W,二氧化硅靶、碳靶与基板间距离均为40-60 mm;

4)外层:继续射频磁控溅射氟化类金刚石层,基板的温度为25-60℃,负偏压100-150V,工作气压0.2-1Pa,基板转速2-8rpm,碳靶电流2-4A,CHF3气流量为5-10mL/min,氩气流量为15-25mL/min,溅射时间为10-50min,射频功率为100-300W,碳靶与基板间距离为40-60 mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建工程学院,未经福建工程学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910019890.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top