[其他]用于处理流体的设备和流体处理设备有效
| 申请号: | 201890000706.X | 申请日: | 2018-03-19 |
| 公开(公告)号: | CN212491895U | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
| 发明(设计)人: | M·奥尔朔克;R·弗努克;C·辛德勒;M·迈纳斯 | 申请(专利权)人: | HYDAC处理技术有限公司 |
| 主分类号: | B01D36/00 | 分类号: | B01D36/00;B01D46/00;B01D46/24;B01D46/52;B01D29/21;B01D29/23;B01D29/33;B01D29/35;B01D29/54;B01D29/58 |
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 闫娜 |
| 地址: | 德国诺*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 处理 流体 设备 | ||
1.用于处理流体的设备,该用于处理流体的设备包括至少一个管状的第一元件(12)和至少一个管状的第二元件(14),所述第一元件和第二元件相互形成元件复合体(10、10'、10),其中一个元件在形成第一元件(12)和第二元件(14)之间的流动空间(33)的情况下这样接纳在其中另一个元件中,使得第一元件(12)朝待处理流体的流入侧(29)的方向且第二元件(14)朝已处理流体的流出侧(31)的方向设置在元件复合体(10、10'、10)中,并且第一元件(12)和第二元件(14)在流体处理期间从流入侧(29)朝流出侧(31)的方向以相继顺序被流经,其特征在于,关于共同的观看方向(P),朝向流入侧(29)的外部的第一元件(12)至少部分地具有相同形状的轮廓并且朝向流出侧(31)的内部的第二元件(14)至少部分地具有不同形状的轮廓,其中,第一元件(12)的第一元件材料具有第一元件折叠部(28),所述第一元件折叠部沿径向具有相同的折叠部高度;第二元件(14)的第二元件材料具有第二元件折叠部(30a、30b),并且在第二元件折叠部(30a、30b)的折叠部高度之间的比例这样选择,使得较短的第二元件折叠部(30a)的折叠部高度是较长的第二元件折叠部(30b)的折叠部高度的2/3。
2.按照权利要求1所述的用于处理流体的设备,其特征在于,沿共同的观看方向(P)在可预定的扇区(32)中在相同形状的轮廓时,其中一个元件的元件几何结构以相同形状的成型连续重复,并且其中另一个元件的不同形状的轮廓以其元件几何结构不连续地延伸。
3.按照权利要求2所述的用于处理流体的设备,其特征在于,在扇区(32)内连续构成的元件几何结构通过过滤用材料和/或聚结用材料的空心或缠绕柱体的一部分或通过过滤材料和/或聚结材料的一定数量的元件折叠部(28)形成,所述元件折叠部具有波浪形走向,所述波浪形走向具有相同频率和相同幅值。
4.按照权利要求3所述的用于处理流体的设备,其特征在于,在扇区(32)内的不连续构成的元件几何结构通过另外的或相同的过滤材料和/或聚结材料的一定数量的元件折叠部(30a、30b)形成,所述元件折叠部具有波浪走向,所述波浪走向具有相同频率和不同幅值。
5.按照权利要求2至4中任一项所述的用于处理流体的设备,其特征在于,各可预定的扇区(32)以其分别连续和不连续延伸的元件几何结构以相继顺序构成用于所述一个元件和所述另一个元件的每个空心柱体。
6.按照权利要求5所述的用于处理流体的设备,其特征在于,至少在一个扇区(32)内,不连续延伸的元件折叠部(30a、30b)以相继顺序隔开距离地保持以便形成通道引导部(35a、35b)并且随后保持成块,并且在可配置的扇区(32)中,连续延伸的元件折叠部(28)在其换向的可预定的位置上以径向错位至少部分地覆盖通道引导部(35a、35b)。
7.按照权利要求5所述的用于处理流体的设备,其特征在于,在至少一个相邻的扇区(32)中连续的元件几何结构与不连续的元件几何结构的元件数量的比例处于1:2至1:4之间。
8.按照权利要求1至4中任一项所述的用于处理流体的设备,其特征在于,按照元件复合体(10、10'、10)的流入方向,至少处于流出侧(31)上的元件在外周边侧和/或内周边侧上设有支承结构。
9.按照权利要求1至4中任一项所述的用于处理流体的设备,其特征在于,按照元件复合体(10、10'、10)的流入方向,至少处于流出侧(31)上的元件在外周边侧和/或内周边侧上设有穿孔的支承管(24、26)。
10.按照权利要求1至4中任一项所述的用于处理流体的设备,其特征在于,在第一元件(12)和第二元件(14)之间在元件复合体(10、10'、10)中仅设置或附加地设置排放层,所述排放层也能够以空腔的型式在第一元件(12)和第二元件(14)之间构成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HYDAC处理技术有限公司,未经HYDAC处理技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201890000706.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:磁悬浮系统、真空系统
- 下一篇:过滤装置





