[发明专利]用于生成冷等离子体的包括电极和电介质的设备在审

专利信息
申请号: 201880097968.7 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN112703824A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: T·H·L·普朗德-朗;M·雅各布 申请(专利权)人: 莱雅公司
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24;A61N1/44;A61B18/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘桢;王丽辉
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 生成 等离子体 包括 电极 电介质 设备
【权利要求书】:

1.一种使用介质阻挡等离子体、用于待处理身体表面的处理设备(1),所述处理设备包括连接至头件(11)的高压发生器(100),所述头件包括至少部分地被电介质壁(14)屏蔽的导电元件(12),所述电介质壁形成端壁(15)的、面对所述待处理表面的至少一个部分,其特征在于,所述导电元件(12)设置有一个或多个突出导电元件(16)并且所述电介质壁(14)适形于所述突出导电元件(16)的形状。

2.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述导电元件(12)是电极。

3.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述导电元件(12)是已电离的惰性气体。

4.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述端壁(15)的外表面设置有多个凸出部(13)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,当所述端壁(15)压在所述待处理身体表面上时,所述端壁(15)与所述待处理表面界定一个或多个气体室(17),所述介质阻挡等离子体是在所述气体室(17)中生成的。

6.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述电介质元件(14)的厚度在所述端壁(15)面对所述待处理表面的整个表面上是恒定的。

7.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述凸出部(13)包括弯曲的外表面。

8.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述突出导电元件(16)具有凹表面,所述凹表面的凹度朝向所述电极(14)。

9.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述突出导电元件(16)具有垂直于其纵向轴线的圆形、椭圆形、卵形或多边形的截面。

10.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述等离子体是直接型的、特别是DBD型的。

11.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述等离子体是生成性紫色光线。

12.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述凸出部(13)分布在所述端壁(15)的外表面内。

13.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述凸出部(13)分布在所述端壁(15)的外表面的外围。

14.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备,其特征在于,所述凸出部(13)规律地分布在所述端壁(15)的外表面上。

15.一种用于使用介质阻挡等离子体来处理身体表面的美容方法,其特征在于,根据前述权利要求中任一项所述的设备(1)在所述身体表面上移动。

16.根据前述权利要求1至14中任一项所述的设备用于预防和/或处理健康头皮或健康皮肤的美学障碍的用途。

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