[发明专利]显示设备有效

专利信息
申请号: 201880091493.0 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN111886925B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 冈部达;斋田信介;市川伸治;谷山博己;郡司辽佑;家根田刚士;仲田芳浩;神村浩治;井上彬 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H05B33/02 分类号: H05B33/02;G09F9/30;H10K59/131;H10K50/805;H05B33/06;H05B33/12;H05B33/22
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 叶乙梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显示 设备
【说明书】:

显示设备(2)在非显示区域(NA)的边缘盖上设置有缝隙(H),在狭缝(H)中,在阳极(22)上连接同层的第一导电层(22M)、和阴极(25),以使在电容电极(CE)上同层的第二金属层(CM)与狭缝(H)重叠方式设置。

技术领域

本发明涉及一种显示设备。

背景技术

专利文献1中公开了如下构成:在OLED(有机发光二极管)的阳极(像素电极)的下侧设置有平坦化膜,并且该阳极和TFT的漏极电极经由形成在平坦化膜上的接触孔连接。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开公报“特开2010-161058号公报(2010年7月22日公开)”

发明内容

本发明所要解决的技术问题

在专利文献1的构成中,存在平坦化膜的形成需要成本的问题。

用于解决问题的方案

本发明的一方面涉及的显示设备是具有显示区域及非显示区域的显示设备,所述显示区域包括多个子像素,所述子像素形成有包含晶体管的子像素电路,所述非显示区域是在所述显示区域的周围并且在端部形成有端子部的非形成区域,所述显示设备的特征在于,在所述显示区域中形成有:第一金属层,其包括所述子像素电路所包含的下层的电极;第一无机绝缘膜,其形成在所述第一金属层的上层;第二金属层,其形成在所述第一无机绝缘膜的上层,且包括所述子像素电路所包含的电极中比所述第一金属层更上层的电极;第二无机绝缘膜,其形成在所述第二金属层的上层;第一电极,其形成在所述第二无机绝缘膜的上层,并且针对每个所述子像素呈岛状地形成在所述子像素电路所包含的电极中的所述第二金属层的更上层;有机绝缘膜,其以覆盖所述第一电极的边缘的方式形成在所述第二无机绝缘膜的上层,并且露出所述第一电极;发光层,其形成在所述第一电极的上层;以及第二电极,其与所述第一电极相对且使所述发光层夹设在之间,所述第二电极跨越所述多个子像素而形成,在所述非显示区域中,在边缘盖形成有围绕所述显示区域的外周的一部分的狭缝,在所述狭缝中,与所述第一电极同层且与所述第一电极分离的第一导电层与所述第二电极接触,形成在所述第二金属层上的第二导电层以隔着所述第二无机绝缘膜与所述狭缝重叠的方式设置,而且,设置有包括由所述第一金属层形成的布线的多条引绕布线,所述引绕布线以在所述狭缝中与所述第一导电层和所述第二导电层交叉的方式从所述非显示区域向所述显示区域延伸,并且与所述显示区域的布线电连接,所述引绕布线在所述狭缝中,隔着所述第一无机绝缘膜、所述第二导电层以及所述第二无机绝缘膜与所述第一导电层重叠。

发明效果

根据本发明的一方面,由于不需要平坦化膜,因此具有成本降低的效果。

附图说明

图1是表示第一实施方式的显示设备的制造方法的流程图。

图2是第一实施方式的显示设备的俯视图。

图3是沿图2所示的A-A'线截取的剖面图。

图4是沿图2所示的B-B'线截取的剖面图。

图5是沿图2所示的C-C'线截取的剖面图。

图6是沿图2所示的D-D'线截取的剖面图。

图7是放大并示出第一实施方式的阳极的一部分的剖面图。

图8是示出第一实施方式的TFT层和发光元件层的形成方法的流程图。

图9是放大了第一实施方式的比较例涉及的显示设备的一部分的剖面图。

图10是示出在第一实施方式的显示设备的显示区域中配置的子像素电路的构成的图。

图11是第二实施方式的显示设备的俯视图。

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