[发明专利]ITO颗粒、分散液和ITO膜的制造方法有效
| 申请号： | 201880086445.2 | 申请日： | 2018-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN111601774B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 村松淳司;蟹江澄志;铃木涼子;西康孝;中积诚 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学;株式会社尼康 |
| 主分类号： | C01G19/00 | 分类号： | C01G19/00;H01B1/00;H01B1/08;H01B1/20;H01B5/00;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于洁;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ito 颗粒 分散 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种ITO颗粒，其满足下述式(1)所示的关系，
Sn的含量相对于In的含量的摩尔比Sn/In为3.98～23.2，
16×S/P2≤0.253···(1)
式中，S表示TEM拍摄照片中的一个颗粒的颗粒面积，P表示该一个颗粒的外周长度。
2.如权利要求1所述的ITO颗粒，其中，在颗粒内部晶体取向一致。
3.一种分散液，其是权利要求1所述的ITO颗粒分散于溶剂中而成的。
4.如权利要求3所述的分散液，其中，所述溶剂包含水。
5.如权利要求3或4所述的分散液，其中，所述分散液实质上不包含表面活性剂。
6.如权利要求3或4所述的分散液，其中，所述ITO颗粒的体积相对于所述溶剂的体积的比例为40％以下。
7.一种ITO膜的制造方法，其包括下述工序：
将权利要求3～6中任一项所述的分散液雾化的雾化工序；
使雾化后的所述分散液与基板接触的接触工序；和
在所述接触工序后使存在于所述基板上的所述分散液干燥的干燥工序。
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