[发明专利]用于处理容器的设备

说明书

一种用于处理容器的设备，其包括容器处理站(1)、运输轨道(2)和用于容纳至少一个容器(4)的载体元件(3)，载体元件能够经由运输元件(5a、5b)沿着运输轨道(2)运动，其中，运输轨道(2)的部段(2a)如下这样地构成，即，使其能够与载体元件(3)一起运动，从而通过部段(2a)的运动能够将容纳在载体元件(3)上的容器(4)引入到容器处理站(1)中以进行容器处理，并且本发明还涉及用于处理容器的方法。

技术领域

本发明涉及用于处理容器的设备和用于处理容器的方法。

背景技术

公知的是，容器在典型的线性的运输轨道上被引向各个容器处理站和从各个容器处理站被引出，在那里，容器被处理。这样的运输轨道例如由DE 10 2013 218 403 A1和DE10 2011 078 555 A1、以及WO 2015/036196 A2所公知。

在这样的运输轨道，例如由于复杂的编程或容器的转移和转移返回，使得垂直于运输方向(或垂直于运输轨道的方向)的运动典型是困难的，这可能导致附加的步骤和停滞时间。

发明内容

本发明的任务是改善上述问题中的一个或多个。

本发明包括根据本发明的设备、以及根据本发明的方法。

待处理的容器可以是例如饮料容器和/或用于其他目的、例如化妆品或其他液体或糊状产品的容器，尤其地，容器可以包括由玻璃、PET或其他塑料制成的瓶子和/或例如由金属制成的罐。

用于处理容器的设备包括容器处理站。

典型的容器处理站可以包括例如用于清洁、冲洗、干燥或填充容器的站、用于利用等离子体(例如用于等离子体灭菌或其他等离子体处理的等离子体腔室)处理容器的设备、用于加载直接印刷的站、涂覆站或其他的容器处理站或构造为它们。涂覆站通常被构建为涂覆腔室，其借助密封件相对于大气压力被气密地密封。这些密封件可以具有任意的型廓，并且在其密封表面上具有弹性的材料。弹性的材料尤其可以是橡胶、硅树脂或类似物。因此，可以施加过压以及负压。因此，将容器引入到涂覆腔室中，产生相应期望的环境压力(优选是相对于大气压的负压)，并且随后将涂覆腔室中的容器在外和/或在内地对容器表面进行涂覆。涂覆腔室包含细长的杆状的元件、尤其是喷枪。优选地，涂覆腔室具有开口。优选地，可流动的介质可以通过这些开口被导入到容器中。优选地，可流动的介质是适用于等离子体流程的气体。有利地，该气体可以是由含硅的前体和氧气构成的混合物，尤其是用于利用氧化硅进行的PECVD(＝plasma enhanced Chemical vapor deposition(等离子体增强化学气相沉积))。然而，也能想到其他气体，例如用于沉积所谓的DLC层的乙炔。针对等离子体灭菌可以例如将氩气和水蒸气导入到容器中。优选地，气体经由刚刚描述的喷枪置入，该喷枪其本身具有用于在容器和/或腔室中将气体进行期望的分布的开口。

有利地，该气体被均匀地分布在瓶内部中。

有利地，涂覆腔室用作用于等离子体产生的电极。然后，可以经由该处理装置以高频形式将用于点燃等离子体的能量耦入到系统中。

优选地，涂覆腔室具有第二电极。该电极可以有利地位于容器外部，但是有利地也可以位于容器内部。该第二电极可以有利地接地或有利地以浮动方式与第一电极连接。

根据有利的实施方式，两个电极布置在容器的区域中。如果存在用于导入气体的喷枪，则两个电极优选布置在喷枪中和/或其上和/或其周围。

在替选的优选实施方式中，可以取消将涂覆腔室用作用于等离子体产生的电极。有利地，这样的实施方式具有用于产生电磁场的设备。有利地，该设备适用于产生电磁场，该电磁场适用于在所导入的气体中点燃等离子体。该产生的电磁场可以是例如高频场，但是例如也可以是微波。有利地，该设备位于容器外部。因此优选地，电磁场从容器外部辐射到容器中。