[发明专利]转移印刷方法

说明书

本发明涉及使用一系列新型防粘层的转移印刷方法。更具体地，本发明涉及用于纳米印制平版印刷法的使用一系列新型防粘层的转移印刷方法。

技术领域

本发明涉及使用一系列新型防粘层的转移印制(imprinting，印刷，压印)方法。更具体地说，本发明涉及用于纳米印制平版印刷(lithography，光刻)方法的使用一系列新型防粘层的转移印制方法。

本发明还涉及采用该方法获得的印制物。

背景技术

纳米印制平版印刷是用于生产纳米级模型的方法。其是具有高产量和高分辨率的简单且低成本的纳米平版印刷方法。其通过将现有的图案转移到能够聚合或者能够熔化的配制物的模板上来创建图案。所述能够聚合的配制物典型地是在印制工艺期间通过加热或电磁辐射进行固化的单体和/或聚合物配制物。在能够熔化的配制物的情况中，后者在熔点处成型、然后冷却。对于能够聚合(或能够熔化)的配制物与模板(模具)之间的粘合进行控制以使得能够恰当地剥离。在已知的现有技术(M.Keil等，J.Vac.Sci.Technol.B 22(6),2004年11/12月；H.Schulz等，Proc.SPIE 3996,244-249,2000)中，该粘合由带有氟代官能团的聚合物控制，一方面确保了防粘的功能，而且，确保了能够使该层接枝到模板(通常为硅烷)上的功能，因为该防粘层必须绝对地保留在模板上。

该转移印制方法可概括为以下步骤：

在纳米印制的情况下，图1的模板1由硅类材料形成。对于其它转移印制方法，该模板可具有另外的性质：矿物、金属、或甚至有机的。

图2的防粘层2由与模板粘合且不与印制物粘合的材料形成。

图3的印制物3由这样的树脂(能够聚合或者不能聚合的配制物)形成，所述树脂采用覆盖有防粘层的模板的形状。

一旦该方法结束，则从1和2的组合体移除印制物3(图4)。

当合适时，在模板1和防粘层2之间加入粘合底物。

所述防粘层必须具有至少两种性质：

其必须在具有或不具有粘合底物的情况下与模板粘合(例如，通过氧等离子体的活化)，而且，其不能与印制物粘合。

这两个条件是难以调和的，并且，采用复杂的化学(elaborate chemistry)，将这些性质结合在一起。在纳米印制的情况下，当前的解决方案导致印制物具有太多的复制缺陷，以致于不能满足电子产品的要求。

具体地说，在文献中广泛公开：防粘层所呈现的相对于能够聚合的配制物的表面能必须尽可能低，以便改善转移的品质(即，使转移缺陷最小化)，而且，通过避免表面污染来改善转移材料的寿命(Bharat Bhushan,Springer ScienceBusiness Media,2010年4月23日,第291页)。其还必须是化学惰性的、疏水的，且允许模板的良好填充(出处同上)，即使是对于非常浅的厚度(几纳米(在纳米印制平版印刷方法的情况下))也是如此。在US2013/0084352和US2003/0080471中也公开了该教导。这两个文件明确地提到了疏水性氟代化合物的使用。

与模板的粘合通常由硅烷官能团提供，而相对于能够聚合的配制物的防粘性质由氟代官能团提供(出处同上)。

尽管WO2012/140383提到了具有与本发明中所述方法相似的特征的表面处理，但是，该文件没有提及在纳米印制领域中的应用，其是与现有技术中所描述的防粘层和纳米印制方法相反的。

本申请人做出了令人惊讶的发现，该发现与关于防粘层的普遍接受的性质相矛盾。