[发明专利]照明光学系统、曝光装置和物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：

照明光学系统，所述照明光学系统包括具有多个光调制元件的第一光调制单元、具有多个光调制元件的第二光调制单元、通过使用来自所述第一光调制单元的光在预定平面上形成第一光学像的第一成像光学系统、以及通过使用来自所述第二光调制单元的光在所述预定平面上形成第二光学像的第二成像光学系统；以及

投影光学系统，所述投影光学系统将在所述预定平面上形成的所述第一光学像和所述第二光学像投影在基板上，

其中，所述照明光学系统还包括使来自所述第一光调制单元的光束的光轴移位的第一光轴偏心单元、以及使来自所述第二光调制单元的光束的光轴移位的第二光轴偏心单元，

其中，所述第一光轴偏心单元包括第一反射镜和第二反射镜，来自所述第一光调制单元的光束通过利用所述第一反射镜和所述第二反射镜中的每一个使它反射来被移位，并且

其中，所述第二光轴偏心单元包括第三反射镜和第四反射镜，来自所述第二光调制单元的光束通过利用所述第三反射镜和所述第四反射镜中的每一个使它反射来被移位。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，还包括取决于偏振来分离光束的偏振分束器，

其中，已被所述偏振分束器反射的光束被引导到所述第一光调制单元，并且已穿过所述偏振分束器的光束被引导到所述第二光调制单元。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，λ/4相位板被布置在所述偏振分束器和所述第一光调制单元之间。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，λ/4相位板被布置在所述偏振分束器和所述第二光调制单元之间。

5.根据权利要求2所述的曝光装置，

其中，第五反射镜被布置在所述偏振分束器和所述第一光调制单元之间，所述第五反射镜使来自所述偏振分束器的光束斜入射在所述第一光调制单元上，并且

其中，第六反射镜被布置在所述偏振分束器和所述第二光调制单元之间，所述第六反射镜使来自所述偏振分束器的光束斜入射在所述第二光调制单元上。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述第一光调制单元和所述第二光调制单元各自是由多个微镜的二维阵列形成的微镜器件，每个微镜具有反射光束的反射面，所述反射面的角度是可改变的。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述第一光调制单元和所述第二光调制单元各自是声光束调制器。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，由所述第一光调制单元形成的所述第一光学像和由所述第二光调制单元形成的所述第二光学像在所述投影光学系统的视场内形成。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，由所述第一光调制单元形成的所述第一光学像的中心与由所述第二光调制单元形成的所述第二光学像的中心彼此偏移。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述曝光装置在所述基板被移动的同时对所述基板执行扫描曝光。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，由所述第一光调制单元形成的所述第一光学像的中心与由所述第二光调制单元形成的所述第二光学像的中心在所述基板的扫描方向上彼此偏移。

12.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，由所述第一光调制单元形成的所述第一光学像的中心与由所述第二光调制单元形成的所述第二光学像的中心在与所述基板的扫描方向垂直的方向上彼此偏移。

13.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，在一次扫描曝光期间，在所述基板上包括被用来自所述第一光调制单元的光束和来自所述第二光调制单元的光束双重曝光的区域。