[发明专利]介质涂覆设备在审
申请号: | 201880079005.4 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN111448002A | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | M·波尔曼;R·舒勒;S·阿曼;B·埃尔克特;G·西贝尔;I·塞尔;J·德普纳;J·普伦;F·埃森魏因;R·洛泽 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | B05B12/00 | 分类号: | B05B12/00;B05B17/06;B05B15/55;B05B11/00;B05B17/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 设备 | ||
1.介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备,该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(18a)上的至少一个介质输出单元(12a-12e;12g),该介质输出单元具有带着至少一个喷嘴元件(16a-16e;16g;16h;106c、108c、110c)的至少一个喷嘴单元(14a-14e;14g),并且该介质涂覆设备具有至少用于控制和/或调节所述介质输出单元(12a-12e;12g)的至少一个电子部件单元(20a;20b),其特征在于,所述喷嘴元件(16a-16e;16g;16h;106c、108c、110c)的至少一个喷嘴参数是能调整和/或能校准的,和/或,所述喷嘴单元(14g)构造为振荡喷嘴单元、尤其构造为压电喷嘴单元。
2.根据权利要求1所述的介质涂覆设备,其特征在于,设有至少一个清洁和/或避免污染单元(112b),该清洁和/或避免污染单元具有用于与介质涂覆方向(116b)相反地输送清洁流体的至少一个负压单元(114b)。
3.根据权利要求2所述的介质涂覆设备,其特征在于,尤其为了借助于所述清洁和/或避免污染单元(112c)清洁所述喷嘴元件(16c、106c、108c、110c)和/或所述喷嘴单元(14c)的阀元件(62c、118c、120c、122c),所述喷嘴单元(14c)构造为转塔喷嘴单元。
4.根据前述权利要求中任一项所述的介质涂覆设备,其特征在于,所述喷嘴单元(14g)具有用于输出介质的至少一个振荡膜片(124g)和用于尤其在超声频率范围中振动地激励所述振荡膜片(124g)的至少一个激励元件(126g)。
5.根据权利要求4所述的介质涂覆设备,其特征在于,所述激励元件(126g)沿着所述振荡膜片(124g)的至少基本上整个最大周边至少基本上环形地布置在所述振荡膜片(124g)上。
6.根据权利要求4或5所述的介质涂覆设备,其特征在于,所述振荡膜片(124g)具有介质穿透开口(130g)的至少一个穿孔网栅(128g;128g’),该穿孔网栅构造成,使得能够借助于所述喷嘴单元(14g)产生介质涂覆点,所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。
7.根据前述权利要求中任一项所述的介质涂覆设备,其特征在于,设有至少一个操作单元(132a)和/或操作功能,其中,所述操作单元(132a)和/或所述操作功能设置成用于分级地或无级地控制至少一个单点的灰度值或色度。
8.涂覆系统,该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据前述权利要求中任一项所述的介质涂覆设备和至少一个控制和/或调节单元(24a),其特征在于,所述控制和/或调节单元(24a)具有至少一个感测设备(26a),该感测设备设置成用于感测所述介质涂覆设备相对于至少一个表面(18a)的至少一个位置和/或定向,并且所述介质涂覆设备的至少一个电子部件单元(20a;20b)设置成用于根据所述感测设备(26a)的至少一个特征参量控制和/或调节所述介质涂覆设备(10a)的至少一个介质输出单元(12a)。
9.根据权利要求8所述的涂覆系统,其特征在于,所述电子部件单元(20a)设置成用于控制和/或调节所述介质输出单元(12a),使得至少一个介质的输出仅在所述介质输出单元(12a)相对于所述表面(18a)至少基本上垂直地定向的情况下进行。
10.根据权利要求8或9所述的涂覆系统,其特征在于,所述感测设备(26a)设置成用于感测至少一个不同于所述表面(18a)的其他区域的区域(28a),在该区域中所述电子部件单元(20a)控制和/或调节所述介质输出单元(12a),使得停止所述介质的输出。
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