[发明专利]用于超声感测的系统和方法在审

专利信息
申请号: 201880061035.2 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN111107946A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: J·A·米兰托;J·C·基钦斯;S·M·哥捷维克 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: B06B1/02 分类号: B06B1/02;B06B1/06;G01S15/89;G06F1/16;G06F3/043;G06K9/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 超声 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于超声感测的设备,所述设备包括:

超声接收器阵列,其包含多个超声传感器像素,每一超声传感器像素包含超声接收器,且每一超声传感器像素经配置以在读取操作模式中操作;

超声发射器阵列,其包含多个超声发射器元件,每一超声发射器元件经配置以在发射操作模式中操作;和

传感器控制器,其可操作地与所述超声发射器阵列和所述超声接收器阵列耦合且经配置以将激励信号施加到所述超声发射器阵列并且从所述超声传感器像素读取所接收的信号;

其中:

所述传感器控制器经配置以在第一时间将第一激励信号施加到所述超声发射器阵列的第一元件;

所述传感器控制器经配置以在第二时间将第二激励信号施加到所述超声发射器阵列的第二元件,其中在所述第一时间和第二时间之间具有第一时间延迟;且

所述传感器控制器经配置以设置第一和第二距离门窗RGW以容纳所述第一时间延迟。

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述传感器控制器进一步经配置以将激励信号施加到所述超声发射器阵列中的每一元件。

3.根据权利要求1所述的设备,其中所述超声发射器阵列包括条带元件。

4.根据权利要求3所述的设备,其中所述超声发射器元件包括安置于金属膜上方的金属化墨元件,所述金属膜安置于聚偏二氟乙烯PVDF层上方,且所述PVDF层安置于金属化墨层上方。

5.根据权利要求4所述的设备,其中在金属化墨元件之间存在0.01”到0.021”的间隙。

6.根据权利要求1所述的设备,其中所述传感器控制器进一步经配置以将第三激励信号施加到所述超声发射器阵列的所述第二元件并且大体同时地将第四激励信号施加到所述超声发射器阵列的第三元件,其中在所述第三激励信号和第二激励信号的所述施加之间存在第二时间。

7.一种用于超声感测的方法,所述方法包括:

通过传感器控制器,在第一时间将第一激励信号施加到超声发射器阵列的第一元件;

通过所述传感器控制器,设置第一多个超声传感器像素的第一距离门延迟RGD;

通过所述传感器控制器,在第二时间将第二激励信号施加到超声发射器阵列的第二元件,且其中在所述第一和第二时间之间存在第一时间延迟;和

通过包含多个超声传感器像素的超声接收器阵列,接收反射的超声信号;和

通过所述传感器控制器,设置第二多个超声传感器像素的第二RGD;且其中通过所述传感器控制器设置所述第一和第二RGD以容纳所述第一和第二时间之间的所述第一时间延迟。

8.根据权利要求7所述的方法,其另外包括将激励信号施加到所述超声发射器阵列中的每一元件。

9.根据权利要求7所述的方法,其另外包括通过所述传感器控制器,设置所述超声接收器阵列内的三个或更多个传感器像素行的相应RGD。

10.根据权利要求9所述的方法,其中每一传感器像素行k+1的所述RGD比每一传感器像素行k的所述RGD长相应时间延迟时段。

11.根据权利要求7所述的方法,其中所述方法另外包含通过所述传感器控制器,将第三激励信号施加到所述超声发射器阵列的所述第二元件并且大体同时地将第四激励信号施加到所述超声发射器阵列的第三元件,其中在所述第三激励信号和第二激励信号的所述施加之间存在第二时间延迟。

12.根据权利要求7所述的方法,其中所述方法另外包含通过所述传感器控制器,在每一传感器像素处,通过调制施加到接收器偏压电极的偏压电压来设置距离门窗RGW。

13.根据权利要求12所述的方法,其中所述方法另外包含通过所述传感器控制器,在每一传感器像素处,设置是所述第一RGD的大约4-20倍的第一RGW持续时间。

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