[发明专利]深紫外线可激发的水溶剂化聚合物染料在审

专利信息
申请号: 201880060262.3 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN111094462A 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 梁永超;大卫·穆罗;布莱恩·沃尔;露西·赵;乔纳森·霍林格;格伦·P·巴塞洛缪 申请(专利权)人: 贝克顿·迪金森公司
主分类号: C09B69/10 分类号: C09B69/10
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 王庆艳;刘继富
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 深紫 外线 激发 溶剂 聚合物 染料
【权利要求书】:

1.一种水溶剂化聚合物染料,所述染料包含:

π-共轭共聚单体的链段;以及

共轭改性重复单元;

其中所述聚合物染料具有深紫外线激发光谱。

2.根据权利要求1所述的聚合物染料,其中所述共轭改性重复单元包含以下结构:

其中:

Z选自共价键、饱和原子、饱和基团和官能团,条件是当Z为共价键时,R22、R23、R25和R28中至少两个不为H;

R21至R28独立地选自H、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、杂芳基、取代的杂芳基、烷氧基、取代的烷氧基、羟基、氰基、卤素、磺酸根/酯、磺酰胺、取代的磺酰胺、羧基、羧酰胺、取代的羧酰胺和水增溶基团,并且其中R22、R23、R25和R28中的一个或多个任选地与Z环状连接从而提供苯并稠合碳环或杂环环;并且

每个*是与所述聚合物染料骨架共价连接的位点。

3.根据权利要求2所述的聚合物染料,其中:

a)Z选自饱和碳原子、饱和杂原子、官能团和饱和接头;

b)Z选自–S–、–S(O)–、–SO2–、–SO2NR’–、–S(O)O–、–O–、–C(O)–、–C(O)NR’–、–C(O)O–、–OC(O)NR’–、–OC(O)O–、–NR’C(O)NR’–、–C(R5)(R6)–、–Si(R5)(R6)–、–N(R’)–、烷基接头和聚乙二醇接头;并且每个R'、R5和R6均独立地选自H、烷基、取代的烷基,或者其中R5和/或R6任选地与R22、R23、R25或R28环状连接从而提供苯并稠合碳环或杂环环;

c)Z选自–S–、–S(O)–、–SO2–、–O–、–C(O)–、–C(O)NR’–、–OC(O)NR’–、–OC(O)O–和–NR’C(O)NR’–;或

d)Z为C(R5)(R6)–或–Si(R5)(R6)–。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物染料,其中所述共轭改性重复单元包含以下结构:

其中:

n1、n2、m1和m2独立地为0至3,其中n1+m1和n2+m2各自独立地为2至3;

R16和R17各自独立地选自H、烷基、取代的烷基、烷氧基、取代的烷氧基、羟基、氰基、卤素、磺酸根/酯、磺酰胺、取代的磺酰胺、羧基、羧酰胺、取代的羧酰胺和水增溶基团;并且

每个*是与所述聚合物染料骨架共价连接的位点。

5.根据权利要求1或2所述的聚合物染料,其中Z为共价键,并且所述共轭改性重复单元包含以下结构:

其中:

R1至R4独立地选自氢、烷基、取代的烷基、卤素、氰基、

条件是R1和R2不为氢;

每个R5独立地为–(CH2CH2O)pR′,其中p为0至50的整数,R′为H、烷基或取代的烷基;

X为O或S;并且

m为0到10的整数。

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