[发明专利]细胞片形成构件、细胞片形成构件的制造方法、及细胞片的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880053662.1 申请日: 2018-08-22
公开(公告)号: CN111051492A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 得能寿子;本乡弘毅;筱塚启 申请(专利权)人: 王子控股株式会社
主分类号: C12M1/00 分类号: C12M1/00;C12M3/00;C12N5/071;C12N5/077
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 代理人: 尹洪波
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 细胞 形成 构件 制造 方法
【说明书】:

一种细胞片形成构件,其具备用于形成细胞片的表面,表面具备多个平坦部和多个凹凸部。各平坦部具有在第1方向延伸的形状,且多个平坦部在整个表面沿着与第1方向交叉的第2方向排列。凸部和凹部中的任一方为阶梯构造,各凹凸部包含将相邻的平坦部之间填埋的多个阶梯构造,阶梯构造的间距为100nm以上10μm以下。

技术领域

本发明涉及一种用于形成细胞片的细胞片形成构件、细胞片形成构件的制造方法、及细胞片的制造方法。

背景技术

以往已提出各种用于培养细胞的方法。例如专利文献1记载的细胞培养方法,使用设有用细微的侧壁区划的多个空间构造的细胞培养用基材,使空间构造相互连通的方向与细胞的伸长方向一致,从而控制细胞的配向性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2006-191809号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在上述的细胞培养用基材中,侧壁所具备的侧壁面、上表面等平坦面作为细胞培养的类似基底发挥作用,如此一来,能够使用细胞培养用基材培养的细胞的伸长方向与平坦面的延伸方向相同。另一方面,除了侧壁面、上表面之外,空间构造的底面也是平坦面,而且空间构造的底面为与侧壁面相连的面,也会往与侧壁面的延伸方向、上表面的延伸方向不同的方向扩展。因此,在上述的细胞培养用基材中,细胞的伸长方向容易集中在各平坦面的连接方向、各平坦面的扩展方向,也就是侧壁面的延伸方向以外的其他方向,其结果,从使细胞的伸长方向相同的观点而言,依然有课题尚待解决。

本发明是有鉴于上述实情而完成的,其目的在于提供一种能够提高细胞片中的细胞的配向性的细胞片形成构件、细胞片形成构件的制造方法、及细胞片的制造方法。

用于解决课题的手段

用于解决上述课题的细胞片形成构件,其具备用于形成细胞片的表面,所述表面具备多个平坦部和多个凹凸部。各平坦部具有往第1方向延伸的形状,且所述多个平坦部在整个所述表面沿着与所述第1方向交叉的第2方向排列。此外,凸部和凹部的任一方为阶梯构造,各凹凸部包含将相邻的所述平坦部之间填埋的多个所述阶梯构造,所述阶梯构造的间距为100nm以上10μm以下。

用于解决上述课题的细胞片形成构件的制造方法包含如下步骤:形成凹版的步骤;及通过所述凹版的转印,形成用于形成细胞片的细胞片形成构件的表面的步骤。所述凹版具备多个平坦部和凹凸部,该多个平坦部具有往第1方向延伸的形状,且在整个所述表面沿着与所述第1方向交叉的第2方向排列,凸部和凹部的任一方为阶梯构造,该凹凸部包含将相邻的所述平坦部之间填埋的多个所述阶梯构造,所述阶梯构造的间距为100nm以上10μm以下。此外,所述形成凹版的步骤包含使用光刻法、胶体蚀刻法、阳极氧化法、及干涉曝光法的至少1种来形成所述凹凸部。

用于解决上述课题的细胞片的制造方法包含如下步骤:使细胞粘接在所述细胞片形成构件的表面,在所述细胞片形成构件的表面形成细胞片的步骤,该细胞对于所述平坦部及所述凹凸部中任一方的粘接比对于另一方的粘接具有优势;及从所述细胞片形成构件的表面剥离细胞片的步骤。

上述各构成中,平坦部和凹凸部构成用于形成细胞片的表面,且具有一方被另一方区划的关系。因此,对于平坦部的粘接具有优势的细胞也好,或对于凹凸部的粘接具有优势的细胞也好,只要细胞优先对一方的构造体粘接,即对另一方的构造体的粘接形成劣势。因此,在一方的构造体区划另一方的构造体的细胞片形成构件的构造上,配合平坦部与凹凸部之间粘接性不同的细胞的性质,细胞的伸长方向会在双方的构造体的延伸方向、即第1方向上相同。其结果,在往二维方向扩展的细胞片中,能够使细胞的伸长方向在一维方向相同,也就是说能够使细胞的配向性提高。其中,由于细胞片形成构件的表面具备平坦部和凹凸部,对于平坦部的粘接具有优势的细胞和对于凹凸部的粘接具有优势的细胞这两者能够适用共通的细胞片形成构件,也就是说能够提高细胞片形成构件的泛用性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王子控股株式会社,未经王子控股株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880053662.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top