[发明专利]工程化表面电荷用于产生双特异性抗体的方法

说明书

本公开涉及改变抗体等电点的方法。所述方法包括提供抗体，所述抗体包含含有重链可变区的第一多肽以及含有重链可变区的第二多肽；以及根据Kabat编号系统，在所述抗体的所述第一多肽和所述第二多肽的至少一者中，取代所述重链可变区(VH)第7、9、11、14、41、70、74、82a、84和113位的一个或多个氨基酸残基，其中所述取代升高或降低所述抗体的等电点。

序列表

本专利申请包含经由EFS-Web提交的序列表，其全部内容全文以引用方式并入本文。2018年5月16日创建的ASCII文本文件命名为JBI5100WOPCTSEQLIST.TXT，并且大小为18千字节。

技术领域

本公开涉及工程化表面电荷以提高双特异性抗体产生的方法。

背景技术

基于抗体的治疗剂已经成功地用于治疗多种疾病，包括癌症和自体免疫/炎性病症。然而，特别是就提高其临床疗效而言，仍然需要对这类药物作出改进。正在探索的一种途径是将附加新型的抗原结合位点工程化到基于抗体的药物中，使得单一免疫球蛋白分子共结合两种不同的抗原。此类结合两种不同抗原的另选抗体形式通常被称为双特异性抗体。

由于它们独特的作用机制，双特异性抗体作为生物治疗候选物受到越来越多的关注。在历史上，IgG型双特异性抗体的产生涉及将四种核酸分子引入细胞中，例如编码对给定抗原特异的第一抗体的重链多肽和轻链多肽的核酸分子，以及编码对不同抗原特异的第二抗体的重链多肽和轻链多肽的核酸分子。在该系统中，编码两种重链和两种轻链的核酸分子的表达、以及两种不同的重链、以及重链与轻链之间的大致随机缔合导致了所产生的具有期望的重链和轻链组合的抗体的比例较小。在以该方式产生的抗体中，仅有十分之一实现了适当的HC和LC配对，以生成所感兴趣的双特异性抗体。为了解决这一问题，设想了促进两种不同HC的异源二聚化以及使HC与其LC配偶体适当的配对形成期望的双特异性抗体的工程化策略。由于引入电荷、疏水性、空间位阻、或它们的组合，此类策略引入的突变不利于不希望的配对。虽然这些类型的方法大大提高了双特异性抗体的比例，但仍然存在其他不希望的抗体物类。因为这些不希望的杂质与期望产物密切联系，它们可能难以移除。

2006年3月16日,Huang等人(国际专利公布WO 2006/028936)提出为了有利于所期望抗体异源多聚体的纯化，可能有利的是通过在一种或多种抗体的CDR或框架中进行选择性取代来调控第一多肽对与第二多肽对之间的等电点(pI)差异。Igawa等人(美国专利申请公布20090263392和20110076275)的后续工作公开了用于使在产生双特异性抗体过程期间形成的不希望的单特异性同源二聚体副产物的移除提高的方法，该方法涉及对包括双特异性的半抗体中的一者或两者进行工程化，以具有不同的pI。pI的变化通过在抗体的恒定区和/或可变区中引入一个或多个特定氨基酸取代来设计。由于半抗体中的一者或两者的pI变化，期望的双特异性抗体可更易于使用阳离子交换从亲本单特异性同源二聚体抗体中纯化。同样，授予Moore等人的美国专利公布20140294823描述了类似的方法，其中亲本抗体之一的重链恒定区中特定的氨基酸取代形成了两条重链具有不同等电点(pI)的异源二聚抗体。

尽管作出了这些努力，仍然需要纯化双特异性抗体的附加方法。

发明内容

本公开的一个方面涉及一种改变抗体等电点的方法。该方法包括提供抗体，该抗体包含含有重链可变区的第一多肽以及含有重链可变区的第二多肽；并且根据Kabat编号系统，在抗体的第一多肽和第二多肽的至少一者中，取代重链可变区(V_H)第7、9、11、14、41、70、74、82a、84和113位的一个或多个氨基酸残基，其中该取代升高或降低抗体的等电点。

本公开的第二方面涉及一种由本文所述的方法产生的等电点改变的抗体。