[发明专利]陶瓷生片制造用脱模膜有效
申请号: | 201880048329.1 | 申请日: | 2018-09-11 |
公开(公告)号: | CN110997258B | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 柴田悠介;中谷充晴;重野健斗;松尾有加 | 申请(专利权)人: | 东洋纺株式会社 |
主分类号: | B28B1/30 | 分类号: | B28B1/30;B32B7/022;B32B27/00;B32B27/36;H01G4/30;H01G13/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷 制造 脱模 | ||
[课题]提供:使陶瓷生片薄膜化的情况下也能兼顾良好的卷取性、和防止针孔、部分的厚度不均等的优异的陶瓷生片制造用脱模膜。[解决方案]一种陶瓷生片制造用脱模膜,其以实质上不含有无机颗粒的聚酯薄膜为基材,在前述基材的一个表面上具有脱模涂布层,通过前述脱模涂布层上的纳米压痕试验,从前述脱模涂布层中的与前述基材相反侧的表面测定的覆膜弹性模量为2.0GPa以上,且在前述基材的另一个表面上具有含有颗粒的易滑涂布层,前述易滑涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为1nm以上且25nm以下,最大突起高度(P)为60nm以上且500nm以下,且轮廓单元的平均宽度(RSm)为10μm以下。
技术领域
本发明涉及陶瓷生片制造用脱模薄。更详细而言,涉及:使陶瓷生片薄膜化的情况下也能均具备良好的卷取性、和防止针孔、部分的厚度不均等的陶瓷生片制造用脱模膜。
背景技术
以往,公开了如下技术:通过使与基材薄膜的设有脱模涂布层的表面相反的表面(背面)的表面粗糙度为较粗,从而消除在陶瓷生片制造用脱模膜以被卷取的状态保管时陶瓷生片制造用脱模膜的表面和背面粘附(粘连)等不良情况(例如参照专利文献1)。然而,上述现有技术存在如下问题:由于突起较大,因此,产生针孔、部分的厚度不均。
因此,为了减小突起的高度,公开了如下技术:在背面的突起填入涂布层,从而用于防止在陶瓷生片中发生针孔、部分的厚度不均(例如参照专利文献2)。然而,根据上述现有技术,虽然突起高度变低,但是突起密度低,因此,在对突起施加的压力大而使陶瓷生片进一步薄膜化的情况下,有产生针孔的发生的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-203822号公报
专利文献2:日本特开2014-144636号公报
发明内容
本发明是以上述现有技术的课题为背景而作出的。即,本发明的目的在于,提供:使陶瓷生片薄膜化的情况下也能均具备良好的卷取性、和防止针孔、部分的厚度不均等的优异的陶瓷生片制造用脱模膜。
本发明人为了达成上述目的而进行了深入研究,结果至此完成了本发明。即,本发明包含以下的构成。
1.一种陶瓷生片制造用脱模膜,其以实质上不含有无机颗粒的聚酯薄膜为基材,在前述基材的一个表面上具有脱模涂布层,通过前述脱模涂布层上的纳米压痕试验,从前述脱模涂布层中的与前述基材相反侧的表面测定的覆膜弹性模量为2.0GPa以上,且在前述基材的另一个表面上具有含有颗粒的易滑涂布层,前述易滑涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为1nm以上且25nm以下、最大突起高度(P)为60nm以上且500nm以下、且轮廓单元的平均宽度(RSm,Mean width of the roughness profile elements)为10μm以下。
2.根据上述第1所述的陶瓷生片制造用脱模膜,其中,脱模涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为5nm以下、且最大突起高度(P)为30nm以下。
3.根据上述第1或第2所述的陶瓷生片制造用脱模膜,其中,易滑涂布层的厚度为0.001μm以上且2μm以下。
4.一种陶瓷生片的制造方法,其使用上述第1~第3中任一项所述的陶瓷生片制造用脱模膜。
5.根据上述第4所述的陶瓷生片的制造方法,其中,要制造的陶瓷生片的厚度为0.2μm~2.0μm。
6.一种陶瓷电容器的制造方法,其采用上述第4或第5所述的陶瓷生片的制造方法。
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