[发明专利]量测设备和衬底平台输送装置系统在审
申请号: | 201880046374.3 | 申请日: | 2018-07-13 |
公开(公告)号: | CN110869855A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | F·G·C·比基恩;金原淳一;S·C·J·A·凯吉;T·A·马塔尔;P·F·范吉尔斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 设备 衬底 平台 输送 装置 系统 | ||
1.一种量测设备,所述量测设备包括:
第一测量设备;
第二测量设备;
第一衬底平台,所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底;
第二衬底平台,所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底;
第一衬底输送装置,所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底;和
第二衬底输送装置,所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底,
其中,从第一前开式晶片盒、第二前开式晶片盒或第三前开式晶片盒装载所述第一衬底,
其中,从所述第一前开式晶片盒、所述第二前开式晶片盒或所述第三前开式晶片盒装载所述第二衬底,
其中,所述第一测量设备是包括第一对准传感器系统的对准测量设备,所述第一对准传感器系统用于测量第一数量的对准标记在由所述第一衬底台和/或所述第二衬底台支撑的衬底上的位置,以及
其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。
2.根据权利要求1所述的量测设备,包括衬底平台定位系统,以在移动平面区域中移动所述第一衬底平台和所述第二衬底台平中的每一个,
其中,在所述第一衬底平台与第一线缆连接件支撑件之间设置第一线缆连接件,并且在所述第二衬底平台与第二线缆连接件支撑件之间设置第二线缆连接件,
其中,在所述移动平面区域的第一侧处设置第一线性引导件以引导所述第一线缆连接件支撑件,并且其中,在所述移动平面区域的与所述第一侧相反的第二侧处设置第二线性引导件以引导所述第二线缆连接件支撑件。
3.根据权利要求2所述的量测设备,其中,所述第一线性引导件和所述第二线性引导件在相同的连接线缆引导方向上延伸。
4.根据权利要求2或3所述的量测设备,其中,所述第一线性引导件和所述第二线性引导件是线性磁性支撑引导件。
5.根据权利要求2至4中的任一项所述的量测设备,其中,所述第一衬底平台和所述第二衬底平台中的每个由定位模块支撑,所述定位模块在限定所述移动平面区域的平面定位表面上可移动。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的量测设备,其中,所述第一衬底输送装置被设置于所述移动平面区域的第三侧处以在所述第一衬底平台上装载和/或卸载衬底,以及
其中,所述第二衬底输送装置被设置于所述移动平面区域的与所述第三侧相反的第四侧处以在所述第二衬底平台上装载和/或卸载衬底。
7.根据权利要求6所述的量测设备,包括:
与所述第一衬底输送装置相邻的第一装载站;和
与所述第二衬底输送装置相邻的第二装载站。
8.根据权利要求2至5中任一项所述的量测设备,其中,在所述移动平面区域的第三侧处设置长臂衬底输送装置以在所述第一衬底平台和所述第二衬底平台上装载和/或卸载衬底。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的量测设备,包括位置测量系统,以确定所述第一衬底平台和所述第二衬底平台的位置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的量测设备,包括:
第一站;和
第二站
其中所述第一衬底平台和/或所述第二衬底平台被布置成移动到所述第一站和所述第二站。
11.根据权利要求10所述的量测设备,其中,所述第一站和/或所述第二站包括重叠传感器,以测量所述衬底上的投影图案之间的重叠。
12.根据权利要求10或11所述的量测设备,其中,在与布置有所述第一站的一侧相反的一侧处,第三站被布置成与所述第二站相邻。
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