[发明专利]紧凑型电离射线生成源、包括多个源的组件以及用于生产该源的方法

权利要求书

1.用于生成电离辐射的源，包括：

真空腔室(12)；

阴极(14)，其能够向所述真空腔室(12)中发射电子束(18)，所述电子束(18)在轴线(19)周围发展；以及

阳极(76)，其接收所述电子束(18)并且包括靶(20；21)，所述靶(20；21)能够从自所述电子束(18)接收的能量生成电离辐射(22)；所述电离辐射(22)是朝向所述真空腔室(12)的外部生成的，

其特征在于，所述阳极(76)包括腔穴(80)，所述电子束(18)意在穿透到所述腔穴(80)中以到达所述靶(20)，并且其特征在于，所述腔穴(80)的壁(88、90)形成阻挡寄生离子(91)的法拉第笼，所述寄生离子(91)能够由所述靶(20)发射到所述真空腔室(12)的内部中，并且其特征在于，与所述腔穴(80)的壁(88、19)分开并且意在捕获所述寄生离子(91)的至少一个吸气物(92)放置在所述腔穴(80)中。

2.根据权利要求1所述的源，其特征在于，所述吸气物(92)由与所述腔穴(80)的材料不同的材料制成。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的源，其特征在于，所述源包括围绕所述腔穴(80)的至少一个磁体或电磁体(94)，并且其特征在于，所述腔穴(80)的壁由非磁性材料制成。

4.根据权利要求2和3所述的源，其特征在于，所述源包括机械保持器(97)，所述机械保持器(97)保持所述吸气物(92)并且由磁性材料制成，并且其特征在于，所述机械保持器(97)放置在所述腔穴(80)中，以引导由所述磁体或电磁体(94)生成的磁通量。

5.根据权利要求2和3或权利要求4所述的源，其特征在于，所述至少一个磁体或电磁体(94)被布置成使所述寄生离子朝向所述至少一个吸气物(92)偏离。

6.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述腔穴(80)的壁(88)中的至少一个壁形成所述真空腔室(12)的壁。

7.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述腔穴(80)的壁(88、90)与所述轴线(19)同轴地布置。

8.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述腔穴(80)的壁包括围绕所述轴线(19)的圆柱形部分(88)，所述圆柱形部分(88)在所述靶(20)和环形部分(90)之间延伸，所述环形部分(90)包含孔(89)并封闭所述圆柱形部分(88)，并且其特征在于，所述电子束(18)经所述部分(90)中的所述孔(89)穿透到所述腔穴(80)中。

9.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述源包括由电介质制成并且形成所述真空腔室(12)的壁的机械部件(28)，并且其特征在于，所述阳极(76)能够密封地固定到所述机械部件(28)。

10.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述靶(21)相对于垂直于所述轴线(19)的平面倾斜。

11.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述源包括有源磁系统(98)，所述有源磁系统(98)在所述腔穴(80)中生成横向于所述轴线(19)的磁场(By)，并且被配置为改变所述电子束(18)在所述靶(20；21)上形成的电子斑(18)的形状。

12.根据前述权利要求中的一项所述的源，其特征在于，所述腔穴(80)的壁(88、90)相对于在所述真空腔室(12)的内部中生成的寄生电离辐射(82)形成屏蔽屏。