[发明专利]用于至少在流化床气化工艺下游的气体的后处理的后处理布置和方法以及逻辑单元和用途

权利要求书

1.一种用于至少在流化床气化工艺下游，尤其在承压流化床气化工艺的HTW气化炉(1)下游的气体的后处理的后处理布置(10)，所述后处理布置具有能够布置在所述流化床气化工艺下游和气体冷却器(3)上游的粒子分离单元(2；11)，所述气体冷却器能够用于所述气体的另一后处理；

其特征在于所述后处理布置包括中间冷却单元(12)，所述中间冷却单元能够布置在所述流化床气化工艺下游和所述粒子分离单元(11)上游，所述中间冷却单元具有用于气化蒸汽(B)的回路(B1)，所述回路能够联接到所述流化床气化工艺。

2.根据权利要求1所述的后处理布置，其中所述粒子分离单元(11)被设计为旋风分离器筒式过滤器单元。

3.根据权利要求2所述的后处理布置，其中所述旋风分离器筒式过滤器单元(11)具有能够联接到所述流化床气化工艺的粉尘回路(A1)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的后处理布置，其中所述后处理布置(10)包括底部产物氧化室(13)，所述底部产物氧化室能够布置在所述流化床气化工艺的排放侧上，尤其能够联接到一/所述HTW气化炉。

5.根据前述权利要求中任一项所述的后处理布置，其中所述后处理布置(10)包括底部产物冷却单元(14)，所述底部产物冷却单元能够布置在所述流化床气化工艺的所述排放侧上，尤其是所述HTW气化炉(1)的排放侧，尤其能够布置在一/所述底部产物氧化室(13)的排放侧上。

6.根据前述权利要求中任一项所述的后处理布置，其中将所述粒子分离单元(11)与所述冷却单元(12)组合成一个单元。

7.一种用于至少在流化床气化工艺下游，尤其在承压流化床气化工艺的HTW气化炉(1)下游的气体的后处理的方法，所述方法包括能够布置在所述流化床气化工艺下游和气体冷却器(3)上游的粒子分离工艺(11)，所述气体冷却器能够用于所述气体的另一后处理；

其特征在于来自所述流化床气化工艺的气体经受所述粒子分离工艺(11)上游的中间冷却(12)，所述中间冷却与从所述中间冷却回到所述流化床气化工艺的气化蒸汽(B)的回路组合。

8.根据权利要求所述7的方法，其中所述中间冷却(12)尤其从约950℃进行到650℃。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其中粒子分离(11)是借助于旋风分离器筒式过滤器单元来进行的；和/或其中粉尘(A)从所述粒子分离工艺(11)返回到所述流化床气化工艺中，尤其返回到所述HTW气化炉(1)中。

10.根据前述方法权利要求中任一项所述的方法，其中所述底部产物的氧化发生在所述流化床气化工艺的排放侧上；和/或其中底部产物冷却(14)发生在所述流化床气化工艺的所述排放侧上，尤其发生在所述底部产物的一/所述氧化(13)的排放侧上。

11.根据前述方法权利要求中任一项所述的方法，其中在所述流化床气化工艺下游的所述气体依序首先经受中间冷却(12)，然后是粒子分离(11)，并且然后是一/所述气体冷却(3)。

12.根据前述方法权利要求中任一项所述的方法，其中合成气体(G)是通过导引气体离开所述气体冷却(3)下游的所述流化床气化工艺并通过至少一个水洗单元(5)、一个移位单元(6)和一个脱硫单元(7)来产生。

13.根据前述方法权利要求中任一项所述的方法，其借助于根据前述权利要求中任一项所述的后处理布置(10)来进行。