[发明专利]用于基于成像的叠加及基于散射测量的叠加的混合叠加目标设计

权利要求书

1.一种叠加目标，其包括：

在单元中的基于成像的叠加目标设计，其包含并排光栅结构；及

在所述单元中的不同位置处的基于散射测量的叠加目标设计，其包含光栅叠光栅结构，其中所述光栅叠光栅结构中的光栅相对于彼此偏移，且其中相较于所述基于成像的叠加目标设计，所述基于散射测量的叠加目标设计具有不同间距。

2.根据权利要求1所述的叠加目标，其中相较于所述基于成像的叠加目标设计，所述基于散射测量的叠加目标设计具有不同临界尺寸。

3.根据权利要求1所述的叠加目标，其中所述基于成像的叠加目标设计及所述基于散射测量的叠加目标设计各自安置于所述叠加目标的两个邻近层上。

4.根据权利要求3所述的叠加目标，其中在所述两个邻近层中的一者上的所述基于成像的叠加目标设计的图案不同于在所述两个邻近层中的另一者上的所述基于成像的叠加目标设计。

5.根据权利要求1所述的叠加目标，其中所述基于成像的叠加目标设计及所述基于散射测量的叠加目标设计在所述叠加目标的单元中且沿着共同定向轴定向，其中在所述叠加目标上存在多个所述单元，且其中所述单元中的两者具有彼此垂直的定向轴。

6.一种方法，其包括：

运用成像光学系统获取夹头上的晶片的叠加目标，借此形成获取图像，其中所述叠加目标包含基于成像的叠加目标设计及基于散射测量的叠加目标设计；

运用所述成像光学系统使用所述获取图像测量所述叠加目标；及

运用散射测量系统使用所述获取图像测量所述叠加目标。

7.根据权利要求6所述的方法，其中运用所述散射测量系统的所述测量在运用所述成像光学系统的所述测量之前。

8.根据权利要求6所述的方法，其中相较于所述基于成像的叠加目标设计，所述基于散射测量的叠加目标设计具有不同临界尺寸。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述基于成像的叠加目标设计及所述基于散射测量的叠加目标设计各自安置于所述叠加目标的两个邻近层上。

10.根据权利要求9所述的方法，其中在所述两个邻近层中的一者上的所述基于成像的叠加目标设计的图案不同于在所述两个邻近层中的另一者上的所述基于成像的叠加目标设计。

11.根据权利要求6所述的方法，其中所述基于成像的叠加目标设计及所述基于散射测量的叠加目标设计在所述叠加目标的单元中且沿着共同定向轴定向，其中在所述叠加目标上存在多个所述单元，且其中区段中的两者具有彼此垂直的定向轴。

12.根据权利要求6所述的方法，其中运用所述成像光学系统的所述测量及运用所述散射测量系统的所述测量至少部分同时发生。

13.一种系统，其包括：

夹头，其经配置以固持具有叠加目标的晶片，其中所述叠加目标包含基于成像的叠加目标设计及基于散射测量的叠加目标设计；

成像光学系统，其经配置以测量所述夹头上的所述叠加目标；

散射测量系统，其经配置以测量所述夹头上的所述叠加目标；及

处理器，其与所述成像光学系统及所述散射测量系统电子通信，其中所述成像光学系统及所述散射测量系统经配置以测量所述相同叠加目标。

14.根据权利要求13所述的系统，其进一步包括成像光学系统获取模块，其经配置以运用所述成像光学系统获取所述夹头上的所述叠加目标，借此形成获取图像，且其中所述成像光学系统及所述散射测量系统使用所述获取图像。

15.根据权利要求13所述的系统，其中所述成像光学系统及所述散射测量系统经配置以至少部分同时测量所述叠加目标。