[发明专利]含氟单体、含氟聚合物与使用其的图案形成用组合物、及其图案形成方法

权利要求书

1.一种含氟聚合物，其含有式(1)所示的重复单元，所述式(1)所示的重复单元相对于所述含氟聚合物总量的含有比例为10mol％以上且100mol％以下，

式(1)中，R¹为氢原子、氟原子、或者碳数1～10的直链状或碳数3～10的支链状的烷基，与烷基中的碳原子键合的氢原子中的7个以下任选被氟原子取代；R²～R⁵为氢原子、碳数1～10的直链状或碳数3～10的支链状的烷基，与烷基中的碳原子键合的氢原子中的7个以下任选被氟原子取代；X为单键或2价的基团，2价的基团所含的7个以下的氢原子任选被氟原子取代；Y为碳数1～3的含氟烷基或羧酸酯基(-COOR)，含氟烷基或羧酸酯基所含的7个以下的氢原子任选被氟原子取代；R为碳数1～3的含氟烷基。

2.根据权利要求1所述的含氟聚合物，其中，所述式(1)中的R²、R⁴、R⁵为氢原子。

3.根据权利要求2所述的含氟聚合物，其中，所述式(1)中的Y为三氟甲基。

4.一种抗蚀图案形成用组合物，其含有权利要求1至3中任一项所述的含氟聚合物、产酸剂、碱性化合物及溶剂。

5.一种抗蚀图案的形成方法，其包括如下步骤：

制膜步骤，其将权利要求4所述的抗蚀图案形成用组合物涂布在基板上而形成膜；

曝光步骤，其通过掩模照射曝光波长300nm以下的电磁波或高能射线，而将掩模的图案转印至膜上；及

显影步骤，其使用显影液对膜进行显影而得到图案。

6.一种墨图案形成用组合物，其含有权利要求1至3中任一项所述的含氟聚合物、产酸剂及溶剂。

7.一种墨图案的形成方法，其包括如下步骤：

制膜步骤，其将权利要求6所述的墨图案形成用组合物涂布在基板上而形成膜；

曝光步骤，其通过掩模对膜照射曝光波长150nm以上且500nm以下的光，将掩模的图案转印至膜上，获得具有疏液部和亲液部的图案形成膜；及

墨图案形成步骤，其在所获得的图案形成膜上涂布墨。

8.一种墨图案形成方法，其包括如下步骤：

制膜步骤，其将权利要求6所述的墨图案形成用组合物涂布在基板上并对所获得的涂膜进行加热；

描绘步骤，其接着通过描绘装置对膜扫描曝光波长150nm以上且500nm以下的光，将图案描绘于膜上，获得具有疏液部和亲液部的图案形成膜；及

墨图案形成步骤，其在所获得的图案形成膜上涂布墨。

9.一种含氟单体，其由式(4)表示；

式(4)中，R¹为氢原子、氟原子、或者碳数1～10的直链状或碳数3～10的支链状的烷基，与烷基中的碳原子键合的氢原子中的7个以下任选被氟原子取代；R²～R⁵为氢原子、碳数1～10的直链状或碳数3～10的支链状的烷基，与烷基中的碳原子键合的氢原子中的7个以下任选被氟原子取代；X为单键或2价的基团，2价的基团所含的7个以下的氢原子任选被氟原子取代；Y为碳数1～3的含氟烷基或羧酸酯基(-COOR)，含氟烷基或羧酸酯基所含的7个以下的氢原子任选被氟原子取代；R为碳数1～3的含氟烷基。

10.根据权利要求9所述的含氟单体，其中，所述式(4)中的R²、R⁴、R⁵为氢原子。

11.根据权利要求10所述的含氟单体，其中，所述式(4)中的Y为三氟甲基。