[发明专利]冷却磁共振成像系统的梯度线圈在审

专利信息
申请号: 201880030727.0 申请日: 2018-05-03
公开(公告)号: CN110622021A 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: G·B·J·米尔德;M·K·特默;T·詹内斯肯斯;J·科尼杰;G·范赫斯特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01R33/385 分类号: G01R33/385
代理公司: 72002 永新专利商标代理有限公司 代理人: 孟杰雄
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 导体线 冷却通道 梯度线圈 磁共振成像系统 冷却梯度线圈 梯度线圈组件 冷却装置 电导体材料 截面视图 冷却流体 连续界面 有效冷却 外部
【权利要求书】:

1.一种用于磁共振成像系统(1)的梯度线圈组件,所述梯度线圈组件包括至少一个梯度线圈(2)和用于冷却所述梯度线圈(2)的冷却装置,其中,

所述梯度线圈(2)包括固体电导体材料,所述固体电导体材料形成一条导体线(21、41)或彼此直接接触的多条导体线(31),

所述冷却装置包括用于引导冷却流体(10)的冷却通道(22、32、42),并且

所述冷却通道(22、32、42)沿着所述一条或多条导体线(21、31、41)以这样的方式被布置在外部:在截面视图中,所述冷却通道(22、32、42)与所述一条或多条导体线(21、31、41)之间的一条单一连续界面线被形成,并且

允许所述冷却流体与所述一条或多条导体线的表面的部分的直接接触。

2.根据权利要求1所述的梯度线圈组件,其中,所述冷却通道具有在一侧开放的横向截面,具体地是具有U形或C形的截面,并且所述开放侧由在所述冷却通道与毗邻所述冷却通道的所述一条或多条导体线之间的所述界面覆盖。

3.根据权利要求1或2所述的梯度线圈组件,其中,所述冷却通道(32)与所述一条或多条导体线(31)之间的所述界面包括所述冷却通道(32)的内壁(34)。

4.根据权利要求1或2所述的梯度线圈组件,其中,所述冷却通道(22、42)在其与所述一条或多条导体线(21、41)的界面的至少部分处是开放的,从而允许在所述冷却通道(22、42)中引导的冷却流体(10)与所述一条或多条导体线(21、41)的外表面的至少部分直接接触。

5.根据前述权利要求中任一项所述的梯度线圈组件,其中,所述固体电导体材料是铜或铝。

6.根据前述权利要求中任一项所述的梯度线圈组件,其中,所述冷却通道(22、32、42)与所述一条或多条导体线(21、31、41)之间的所述界面不是沿着所述一条或多条导体线(21、31、41)的整个外周形成的。

7.一种具有根据前述权利要求中任一项所述的梯度线圈组件(20、30、40)的磁共振成像系统。

8.一种用于制造根据权利要求1至7中任一项所述的梯度线圈组件(20、30、40)的方法,其中,所述一条或多条导体线(21、31、41)和所述冷却通道(22、32、42)通过共挤出制成,或者首先分别挤出并且然后彼此固定。

9.一种用于冷却用于磁共振成像系统(1)的梯度线圈(2)的方法,其中,

所述梯度线圈(2)包括固体电导体材料,所述固体电导体材料形成一条导体线(21、41)或彼此直接接触的多条导体线(31),并且

冷却流体(10)沿着所述一条或多条导体线(21、31、41)以这样的方式在外部被引导:在截面视图中,在所述冷却流体(10)与所述一条或多条导体线(21、31、41)之间存在仅一条单一连续界面线,并且所述冷却流体与所述一条或多条导体线的表面的部分直接接触。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述界面线包括内壁(34)。

11.根据权利要求9或10所述的方法,其中,所述冷却流体(10)与所述一条或多条导体线(21、41)的外表面的至少部分直接接触。

12.根据权利要求9或11中任一项所述的方法,其中,所述冷却流体(10)不沿着所述一条或多条导体线(21、31、41)的整个外周覆盖所述一条或多条导体线(21、31、41)。

13.根据权利要求1所述的梯度线圈组件,其中,所述冷却通道(22、32、42)由塑料材料或不锈钢制成,所述冷却通道被固定到所述一条或多条导体线(21、31、41)。

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