[发明专利]亚体素分辨率磁共振指纹成像有效
申请号: | 201880028381.0 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN110573897B | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | T·E·阿姆托尔;M·I·多内瓦;K·佐默;P·柯肯 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G01R33/56 | 分类号: | G01R33/56;G01R33/561;G01R33/483;G01R33/54;G01R33/24;G01R33/44;A61B5/055;G01R33/485;G01R33/565 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘兆君 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 亚体素 分辨率 磁共振 指纹 成像 | ||
1.一种磁共振成像系统(100),其中,所述磁共振成像系统包括:
存储器(134),其用于存储机器可执行指令(140)和磁共振指纹脉冲序列命令(142),其中,所述磁共振指纹脉冲序列命令使所述磁共振成像系统根据磁共振指纹协议来采集磁共振指纹磁共振数据(144),其中,所述磁共振指纹脉冲序列命令被配置用于以二维切片(410、412、414、416、418、420)采集所述磁共振指纹磁共振数据,其中,所述二维切片具有切片选择方向,其中,所述磁共振指纹脉冲序列命令包括一连串脉冲序列重复,其中,所述一连串脉冲序列重复包括对所述磁共振指纹磁共振数据进行重复采样的采样事件;
处理器,其用于控制所述磁共振成像系统,其中,所述机器可执行指令的运行使所述处理器:
通过利用所述磁共振指纹脉冲序列命令控制所述磁共振成像系统来采集(200)所述磁共振指纹磁共振数据;并且
使用所述磁共振指纹磁共振数据来构建(202)针对所述二维切片的每个体素的至少一个磁共振参数值的系列(148),其中,所述系列中的每个对应于每个脉冲序列重复的所述采样事件;并且
使用针对所述二维切片的每个体素的两个或更多个亚体素(306、308)中的每个亚体素的亚体素磁共振指纹词典(150)以及所述至少一个磁共振参数值的所述系列来计算(204)所述两个或更多个亚体素内的预定物质的集合中的每种预定物质的组成(502、504、506、508),其中,亚体素在所述切片选择方向上分割每个体素,其中,所述亚体素磁共振指纹词典包括通过对针对所述两个或更多个亚体素中的每个亚体素的激励脉冲轮廓的不同部分进行积分而计算的单独的指纹,其中,所述激励脉冲轮廓是翻转角分布和相位角分布,其中,所述两个或更多个亚体素内的所述组成是通过使用线性优化确定来自所述两个或更多个亚体素中的每个亚体素的贡献来计算的,其中,发生以下各项中的任一项:
所述激励脉冲轮廓具有对称的翻转角分布并且具有反对称的相位分布;所述磁共振指纹脉冲序列命令指定射频脉冲,其中,所述射频脉冲是不对称的;以及
以上两项的组合。
2.根据权利要求1所述的磁共振成像系统,其中,所述一连串脉冲序列重复中的每个脉冲序列重复包括从射频脉冲的预定分布中选择的射频脉冲,其中,射频脉冲的所述预定分布被配置为使磁自旋旋转到翻转角的分布,其中,针对所述两个或更多个亚体素中的每个亚体素的所述亚体素磁共振指纹词典取决于翻转角的所述预定分布。
3.根据权利要求2所述的磁共振成像系统,其中,翻转角的所述分布在以下范围中的任一种范围内变化:在30度的范围内、在70度的范围内、在110度的范围内、在150度的范围内,以及在180度的范围内。
4.根据权利要求1-3中的任一项所述的磁共振成像系统,其中,所述机器可执行指令的运行使所述处理器使用全局磁共振指纹词典来计算全局组成图像(402、404、406、408),所述全局组成图像描述所述二维切片的每个体素内的预定物质的全局集合中的每种预定物质的组成。
5.根据权利要求4所述的磁共振成像系统,其中,所述机器可执行指令的运行还使所述处理器:
使用所述全局组成图像和预定标准来识别所述二维切片内的感兴趣体素,其中,对两个或更多个亚体素内的预定物质的所述集合中的每种预定物质的组成的计算限于所述感兴趣体素;并且
使用所述感兴趣体素的所述两个或更多个亚体素来细化所述全局组成图像。
6.根据权利要求5所述的磁共振成像系统,其中,所述预定标准被配置为识别以下各项中的任一项:边界区域、异常组织及其组合。
7.根据权利要求5或6所述的磁共振成像系统,其中,所述机器可执行指令的运行还使所述处理器使用全局映射来选择针对所述两个或更多个亚体素中的每个亚体素的所述亚体素磁共振指纹词典。
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