[发明专利]膜

说明书

本发明提供一种膜，是至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的膜，通过该膜，在作为转印膜使用的情况下，能够均匀地转印低光泽调外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，具有粒子脱落、削减这样的不良状况不易发生的良好的加工工序适应性。

技术领域

本发明涉及膜。

背景技术

近年来，通过伴随智能手机、平板的扩大的电路的集成化，印刷配线基板的高精度、高密度化进展。在印刷配线基板的制造工序中，在绝缘基材(聚酰亚胺树脂、聚苯硫醚树脂等)的表面设置电路后，以绝缘和电路保护作为目的，被覆作为具有粘接层的耐热树脂膜的覆盖层，经由脱模膜，通过加压层压进行成型。此时，对脱模膜要求与印刷配线板材料、加压板的脱模性、形状追随性、均匀的成型性、哑光风格外观的转印性等。此外，即使是通过加热加压使绝缘层、硬涂层、电磁波屏蔽层等功能层转印于电路基板表面的基材，哑光风格膜的需求也提高。

以往，作为哑光风格的膜，一般是砂消光膜、化学消光膜、涂布消光膜等加工品。然而，加工品具有由工序增加导致的成本升高、品质的课题，期望改善。针对这些课题，确认到通过将大量粒子与树脂一起挤出的方法制造的粒子掺入膜具有优势性，但该粒子掺入膜难以达到近年来要求的高水平的低光泽外观。此外，该粒子掺入膜的光线透射率低，因此在应用光固化性的树脂作为进行叠层的功能层的情况下存在固化变得不充分，应用范围受限定的课题。

作为以往使用的哑光风格的转印基材，提出了高浓度含有无机粒子、或有机粒子的聚酯膜(例如专利文献1、2)。此外，作为具有高度的哑光风格外观的膜，提出了通过涂布在表面设置了树脂层的膜(例如专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-97522号公报

专利文献2：日本特开2014-24341号公报

专利文献3：日本特开2005-24942号公报

发明内容

发明所要解决的课题

专利文献1、2所记载的膜不为确保透明性的设计，此外表面粗糙度的偏差也不能充分地降低，因此在应用光固化性树脂作为功能层时，存在不能均匀地转印低光泽表面的课题。

此外，专利文献3所记载的膜的光泽度非常低，外观优异，但在用于转印用途的情况下，有时因为粗大粒子的脱落，而发生转印表面的品质降低、粒子附着等不良状况。此外，在通过涂布而设置了脱模层的情况下，叠层的脱模层填埋膜表面的凹部，光泽度增加，因此存在转印后的光泽度不降低，得不到目标的哑光风格外观的课题。

本发明的课题是解决上述现有技术的问题。即，提供在作为转印膜而使用的情况下，能够均匀地转印低光泽风格外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，不易发生粒子脱落、错位这样的不良状况的具有良好的加工工序适应性的膜。

用于解决课题的方法

为了解决这样的课题，本发明采用以下构成。

(1)一种膜，其至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上。

(2)根据(1)所述的膜，上述表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下的表面的最大凸起高度(SRp)、与最大凹陷深度(SRv)满足下述式(II)。

1≤SRp/SRv≤3···(II)