[发明专利]用于制备氧化层的基于金属氧化物前体的可直接结构化的配制物

权利要求书

1.涂料组合物，其包含：

a)至少一种金属氧化物前体，

b)至少一种光酸产生剂，和

c)至少一种溶剂。

2.如权利要求1所述的涂料组合物，其特征在于，所述金属氧化物前体包含至少一种选自以下组中的金属原子：In、Zn、Ga、Y、Sn、Ge、Sc、Ti、Zr、Al、W、Mo、Ni、Cr、Fe、Hf和Cu。

3.如权利要求1和2中任一项所述的涂料组合物，其特征在于，所述至少一种金属氧化物前体包含至少一种选自以下组中的配体：氧代基团、羟基、烷氧基、羧基、β-二酮基、卤离子基、硝酸根基以及仲胺基和伯胺基。

4.如权利要求1-3中任一项所述的涂料组合物，其特征在于，所述至少一种光酸产生剂能够在电磁辐照的作用下释放一个或多个酸分子。

5.如权利要求3所述的涂料组合物，其特征在于，根据能够在电磁辐照的作用下释放的酸分子，所述至少一种光酸产生剂在所述组合物中的存在量相对于所述至少一种金属氧化物前体至少是等摩尔比。

6.如前述权利要求中任何一项所述的涂料组合物，其特征在于，所述至少一种溶剂选自以下组中：β-二酮、醚醇、醇、醚和酯。

7.如前述权利要求中任何一项所述的涂料组合物用于制备直接结构化的金属氧化物层的用途。

8.制备金属氧化物层的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：

(I)用至少一种如权利要求1-6中任何一项所述的涂料组合物涂覆基材；

(II)对由此施加的涂层进行曝光；

(III)显影所述涂层。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，在步骤(I)中对基材的涂覆可通过选自以下组中的涂覆方法进行：印刷方法、喷涂方法、旋转涂覆方法、浸渍方法和选自弯月面涂覆、狭缝涂覆、缝模涂覆和幕涂的方法。

10.如权利要求8和9中任一项所述的方法，其特征在于，所述涂料组合物中的光酸产生剂在步骤(II)的曝光过程中释放酸分子，这改变了所述涂层的溶解性。

11.如权利要求8-10中任一项所述的方法，其特征在于，在步骤(II)中的曝光是通过用UV、IR或VIS辐射进行辐照而实现的。

12.如权利要求8-11中任一项所述的方法，其特征在于，所述显影是通过用选自以下组中至少一种溶剂进行处理而实现的：含水碱、含水酸、水、醇、酮、酯及上述的混合物。

13.如权利要求8-12中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括将显影的涂层热转化的步骤(IV)。

14.由如权利要求8-13中任一项所述的方法制备的含金属氧化物的层。

15.至少一种如权利要求14所述的含金属氧化物的层用于制备电子部件的用途，特别是用于制备晶体管、二极管、传感器或太阳能电池的用途。