[发明专利]2-芳基磺酰胺基-iV-芳基乙酰胺衍生的Stat3抑制剂

权利要求书

1.式I代表的化合物：

其中R¹可以为芳基或5、6元杂环芳基，杂原子可以是O，N和S(A)₂中的一个或多个(S为硫原子，A可以为O或其他电子对)；芳基或5、6元杂环芳基可以有选择性的被卤素、CF₃、Ci-C₆支链烷基、芳基、杂环芳基、C₃-C₇环烷基、C₃-C₇环烯基、3到6元杂环、3到7元饱和杂环、稠合的C2-C5亚烷基(其中一个或者多个CH₂基团可以被O、NR⁹，和S(A)₂取代(S为硫原子，A可以为氧原子或电子对)取代)，芳基或5、6元杂环芳基可以被取代为萘、吲哚、苯并呋喃和苯并噻吩。R²和R³可以分别为H或者Ci-C₆烷基，R²和R³可以形成环烷烃，这个环上可以被1个或多个Ci-C₆烷基、羟基、(CH₂)fNR⁹R¹⁰、(CH₂)fOR⁹、(CH₂)fCO₂R⁹,(CH2)fCO₂NR⁹R¹⁰取代，其中R⁴和R⁵可以形成一个C₃-C₆的环烷烃环，C₃-C₆环烷烃环可以被1个或多个Ci-C₆烷基、羟基、NR⁹R¹⁰或Ci-C₆的烷氧基取代(其中一个或者多个CH₂基团可以被O、NR⁹，和S(A)₂取代(S为硫原子，A可以为氧原子或电子对))；R⁶可以为Ci-C₆烷基；R⁴和R⁶可以形成一个C₃-C₆的环烷烃环，C₃-C₆的环烷烃环可以被1个或者多个Ci-C₆烷基、羟基，、R⁹R¹⁰(其中一个或者多个CH₂基团可以被O、NR⁹，和S(A)2取代(S为硫原子，A可以为氧原子或电子对))；R⁴和R⁶也可以有选择性地形成吡咯环(吡咯环中一个或者多个CH基团可以被O、NR⁹，和S(A)₂取代(S为硫原子，A可以为氧原子或电子对))；R⁷可以为CF₃、芳基或杂环芳基，其中芳基或者杂环芳基可以被1-5个Ci-C₆烷基、卤素、羟基、CN或CF3取代；R⁸可以被1个或者多个H、Ci-C₆烷基、Ci-C₆烷氧基、羟基、卤素、OC(O)CH₃、NR⁹R¹⁰、CN、CF₃、CO2R⁹、CO₂NR⁹R¹⁰、(CH₂)fCNR⁹R¹⁰、(CH₂)fOR⁹、(CH₂)fCO ₂R⁹；R⁹可以为H或C_i-C₆烷基；R¹⁰可以为H，Ci-C₆烷基；W可以为CO₂H，四唑，苄基、C(O)NHOR¹⁰和CF₂OH；Q为C、CH、N、O、S；其中Q和R⁸可以形成一个杂环；p为1或0；y为1或0，f为0至9；t为0或1；

及其溶剂化物、水合物或药学上可以接受的盐。