[发明专利]阻气性层合体有效
| 申请号： | 201880019121.7 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN110392630B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 古屋拓己;岩屋涉;大桥健宽 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张桂霞;李志强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气性 合体 | ||
1.阻气性层合体，其特征在于，该阻气性层合体具有：
基材层；
直接或者经由其他层层合于上述基材层的一个面A上而形成的阻气层；
直接层合于上述阻气层上而形成的保护膜α；以及
直接或者经由其他层层合于与上述基材层的面A相反的面B上而形成的保护膜β，
其中，上述保护膜α是具有支撑体α1和粘合剂层α2的层合膜，
上述粘合剂层α2含有丙烯酸系聚合物或聚烯烃系聚合物，
上述保护膜β是具有支撑体β1和粘合剂层β2的层合膜，
上述粘合剂层β2含有丙烯酸系聚合物，
在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜α时的粘合力为0.1N/50mm以下，
在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜β时的粘合力为1.5N/50mm以下。
2.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述阻气层是含有选自硅氧化物、硅氮化物、硅氟化物、硅碳化物、金属氧化物、金属氮化物、金属氟化物、金属碳化物和包含构成这些化合物的元素的复合化合物的至少一种的层。
3.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜α后，在剥离速度10m/分钟、剥离角度180°的条件下剥离上述保护膜β时，剩下的层合体的水蒸气透过率不足0.2g·m-2·天-1。
4.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述阻气层是将通过接受改质处理能够变成含有无机化合物的层的层表面进行改质而得到的层。
5.权利要求1～4中任一项所述的阻气性层合体，该阻气性层合体用于传感器元件或者光学元件。
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