[发明专利]粒子表征

权利要求书

1.一种表征样品中的粒子的方法，包括：

获得散射测量，所述散射测量包括来自检测器的对散射光的测量的时间序列，所述散射光通过照射光束与所述样品的相互作用产生；

产生经校正的散射测量，包括通过使所述散射测量的至少一些时间段中的散射强度减少来补偿来自污染物的散射贡献；

根据所述经校正的散射测量确定粒子特性；

其中，减少所述散射强度包括确定来自污染物的散射贡献的模型，并且然后从所述散射测量中减去所述模型，其中，确定所述模型包括：对所述散射测量进行低通滤波或平滑和/或执行对所述散射测量中的一个或更多个尖峰的拟合。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，减少所述散射强度包括修改记录的散射测量。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，减少所述散射强度包括对所述散射测量进行高通滤波。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，减少所述散射强度包括根据所述散射测量确定污染物参数，其中，减少所述散射强度的步骤对所述污染物参数为响应性的。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述污染物参数包括用于滤波操作的截止频率。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，确定所述污染物参数包括在所述散射测量的频谱内容中寻找统计离群值。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，产生经校正的散射测量包括：通过将从未经校正的散射测量得出的原始自相关函数的一部分与从经调整的散射测量得出的经调整的自相关函数的一部分相组合，来产生复合自相关函数，在所述经调整的散射测量中，已使至少一个时间段中的散射强度减少以补偿来自污染物的散射贡献。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述原始自相关函数的一部分与比所选择的延迟时间短或与所选择的延迟时间相等的延迟时间对应，并且所述经调整的自相关函数的一部分与比所述所选择的延迟时间长或与所述所选择的延迟时间相等的延迟时间对应。

9.根据权利要求8所述的方法，包括：使所述原始自相关函数归一化，使得所述复合自相关函数在所述所选择的延迟时间处是连续的。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，所述所选择的延迟时间在50至200微秒的范围内。

11.根据权利要求8或9所述的方法，其中，所述所选择的延迟时间被确定成使得在所述所选择的时间延迟处所述原始自相关函数的线性区域的梯度与所述经调整的自相关函数的相同线性区域的梯度匹配。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述散射测量包括光子脉冲序列，并且减少所述散射强度包括从所述序列中删除光子脉冲。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，从所述序列中删除光子脉冲包括：将所述光子脉冲序列分筐，并且通过从每个所选择的筐中删除一数量的光子脉冲来校正该所选择的筐。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，减少所述散射强度包括：确定来自污染物的散射贡献的模型，所述模型包括对每个筐中由于来自污染物的散射而引起的光子脉冲的数量进行估计，并且校正所述所选择的筐包括基于对每个所选择的筐的所述估计删除该数量的光子脉冲。

15.一种用于表征粒子的设备，包括：光源、样品池、检测器和处理器；其中，

所述光源能操作以用光束照射所述样品池内的样品，以便通过所述光束与所述样品的相互作用产生散射光；

所述检测器被配置为检测所述散射光并产生测量的时间序列；并且

所述处理器被配置为：

获得散射测量，所述散射测量包括来自所述检测器的对所述散射光的测量的时间序列；

产生经校正的散射测量，包括通过使所述散射测量的至少一些时间段中的散射强度减少来补偿来自污染物的散射贡献；

根据所述经校正的散射测量确定粒子特性；

其中，减少所述散射强度包括确定来自污染物的散射贡献的模型，并且然后从所述散射测量中减去所述模型，其中，确定所述模型包括：对所述散射测量进行低通滤波或平滑和/或执行对所述散射测量中的一个或更多个尖峰的拟合。