[发明专利]包括多个VCSEL的光源阵列有效
申请号: | 201880013193.0 | 申请日: | 2018-02-14 |
公开(公告)号: | CN110301076B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | R.恩格伦;N.B.普费弗;A.范德西伊德 | 申请(专利权)人: | 亮锐控股有限公司 |
主分类号: | H01S5/042 | 分类号: | H01S5/042;H01S5/42;H01S5/183;H01S5/022 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李熙;闫小龙 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 vcsel 光源 阵列 | ||
1.一种光源阵列(1),包括在衬底(3)之上彼此横向布置的多个VCSEL(2),其中每个VCSEL(2)包括由不发射光的电极结构(22)包围的发光区域(21),其中遮挡层(4)被涂敷在至少所述电极结构(22)之上,所述遮挡层(4)仅覆盖所述电极结构(22)的面向所述VCSEL(2)的一般发光方向(5)的表面(22s),所述遮挡层(4)是不透明层,并且被适配为将不发射光的关闭状态下的所述阵列(1)与所述光源阵列(1)要被安装于其中的设备(10)的外壳(11)的外表面(11s)光学匹配。
2.根据权利要求1所述的光源阵列(1),其中所述电极结构(22)的所有可见表面(22s、22l)被所述遮挡层(4)涂覆。
3.根据权利要求1所述的光源阵列(1),其中所述光源阵列(1)包括相邻VCSEL(2)之间的非有源区域(6),其中所述遮挡层(4)也覆盖所述非有源区域(6)。
4.根据权利要求3所述的光源阵列(1),其中所述非有源区域(6)限定相邻VCSEL(2)之间的体积(61),其中至少所述体积(61)被填充物材料(7)适当地填充,以在相邻VCSEL(2)之间提供待被涂覆有所述遮挡层(4)的平坦表面(71)。
5.根据权利要求4所述的光源阵列(1),其中所述填充物材料(7)是光致抗蚀剂材料。
6.根据权利要求4所述的光源阵列(1),其中所述填充物材料(7)将至少一个体积(61)填充到所述衬底(3)上方的所述相邻VCSEL(2)的所述电极结构(22)的最高距离(D1)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的光源阵列(1),其中所述遮挡层(4)具有可见波长范围内的吸收或反射光谱,所述吸收或反射光谱与所述电极结构(22)的材料的对应吸收或反射光谱不同。
8.根据权利要求7所述的光源阵列(1),其中所述电极结构(22)的所述材料是金。
9.一种设备(10),包括至少一个根据权利要求1所述的光源阵列(1)和具有外表面(11s)的外壳(11),其中所述遮挡层(4)将关闭状态下的所述阵列(1)与所述外表面(11s)光学匹配。
10.一种用来制造根据权利要求1所述的光源阵列(1)的方法(100),包括以下步骤:
-以横向阵列(1)在衬底(3)之上布置(110)多个VCSEL(2),其中每个VCSEL(2)包括由不发射光的电极结构(22)包围的发光区域(21);
-至少在所述电极结构(22)之上涂敷(140)作为不透明层的遮挡层(4),所述遮挡层(4)仅覆盖所述电极结构(22)的面向所述VECSEL(2)的一般发光方向(5)的表面(22s),以便将关闭状态下的所述阵列(1)与所述光源阵列(1)要被安装于其中的设备(10)的外壳(11)的外表面(11s)光学匹配。
11.根据权利要求10所述的方法(100),其中在涂敷(140)所述遮挡层(4)的步骤之前,所述方法还包括以下步骤:
-在涂敷(140)所述遮挡层之前,利用光致抗蚀剂材料覆盖(120)所述发光区域(21);和
-在已经涂敷所述遮挡层之后,清洗掉(160)覆盖所述发光区域(21)的光致抗蚀剂层,以便去除所述发光区域(21)之上的任何材料。
12.根据权利要求10或11所述的方法(100),其中涂敷(140)所述遮挡层(4)的步骤还将涂覆位于相邻VCSEL(2)之间的所述阵列(1)内的非有源区域(6)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亮锐控股有限公司,未经亮锐控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880013193.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于光栅的光发射机
- 下一篇:传送装置和用于将电缆管道安装在传送装置上的方法