[发明专利]包括多个VCSEL的光源阵列有效

专利信息
申请号: 201880013193.0 申请日: 2018-02-14
公开(公告)号: CN110301076B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: R.恩格伦;N.B.普费弗;A.范德西伊德 申请(专利权)人: 亮锐控股有限公司
主分类号: H01S5/042 分类号: H01S5/042;H01S5/42;H01S5/183;H01S5/022
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李熙;闫小龙
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 包括 vcsel 光源 阵列
【权利要求书】:

1.一种光源阵列(1),包括在衬底(3)之上彼此横向布置的多个VCSEL(2),其中每个VCSEL(2)包括由不发射光的电极结构(22)包围的发光区域(21),其中遮挡层(4)被涂敷在至少所述电极结构(22)之上,所述遮挡层(4)仅覆盖所述电极结构(22)的面向所述VCSEL(2)的一般发光方向(5)的表面(22s),所述遮挡层(4)是不透明层,并且被适配为将不发射光的关闭状态下的所述阵列(1)与所述光源阵列(1)要被安装于其中的设备(10)的外壳(11)的外表面(11s)光学匹配。

2.根据权利要求1所述的光源阵列(1),其中所述电极结构(22)的所有可见表面(22s、22l)被所述遮挡层(4)涂覆。

3.根据权利要求1所述的光源阵列(1),其中所述光源阵列(1)包括相邻VCSEL(2)之间的非有源区域(6),其中所述遮挡层(4)也覆盖所述非有源区域(6)。

4.根据权利要求3所述的光源阵列(1),其中所述非有源区域(6)限定相邻VCSEL(2)之间的体积(61),其中至少所述体积(61)被填充物材料(7)适当地填充,以在相邻VCSEL(2)之间提供待被涂覆有所述遮挡层(4)的平坦表面(71)。

5.根据权利要求4所述的光源阵列(1),其中所述填充物材料(7)是光致抗蚀剂材料。

6.根据权利要求4所述的光源阵列(1),其中所述填充物材料(7)将至少一个体积(61)填充到所述衬底(3)上方的所述相邻VCSEL(2)的所述电极结构(22)的最高距离(D1)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的光源阵列(1),其中所述遮挡层(4)具有可见波长范围内的吸收或反射光谱,所述吸收或反射光谱与所述电极结构(22)的材料的对应吸收或反射光谱不同。

8.根据权利要求7所述的光源阵列(1),其中所述电极结构(22)的所述材料是金。

9.一种设备(10),包括至少一个根据权利要求1所述的光源阵列(1)和具有外表面(11s)的外壳(11),其中所述遮挡层(4)将关闭状态下的所述阵列(1)与所述外表面(11s)光学匹配。

10.一种用来制造根据权利要求1所述的光源阵列(1)的方法(100),包括以下步骤:

-以横向阵列(1)在衬底(3)之上布置(110)多个VCSEL(2),其中每个VCSEL(2)包括由不发射光的电极结构(22)包围的发光区域(21);

-至少在所述电极结构(22)之上涂敷(140)作为不透明层的遮挡层(4),所述遮挡层(4)仅覆盖所述电极结构(22)的面向所述VECSEL(2)的一般发光方向(5)的表面(22s),以便将关闭状态下的所述阵列(1)与所述光源阵列(1)要被安装于其中的设备(10)的外壳(11)的外表面(11s)光学匹配。

11.根据权利要求10所述的方法(100),其中在涂敷(140)所述遮挡层(4)的步骤之前,所述方法还包括以下步骤:

-在涂敷(140)所述遮挡层之前,利用光致抗蚀剂材料覆盖(120)所述发光区域(21);和

-在已经涂敷所述遮挡层之后,清洗掉(160)覆盖所述发光区域(21)的光致抗蚀剂层,以便去除所述发光区域(21)之上的任何材料。

12.根据权利要求10或11所述的方法(100),其中涂敷(140)所述遮挡层(4)的步骤还将涂覆位于相邻VCSEL(2)之间的所述阵列(1)内的非有源区域(6)。

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