[发明专利]用于材料处理的激光装置

权利要求书

1.一种用于材料处理的激光装置，所述激光装置包括：

-脉冲激光束的源，

-检测器系统，所述检测器系统包括第一检测器元件和第二检测器元件，所述第一检测器元件和第二检测器元件用于：对通过辐射耦合输出而从所述激光束产生的多个部分光束进行光电检测；以及提供相应的第一检测信号和第二检测信号，

其中第一检测信号基于单光子吸收，以及第二检测信号基于双光子吸收；以及

评估单元，所述评估单元连接至所述检测器系统，用于评估所述第一检测信号和第二检测信号，

其特征在于，所述评估单元被配置为：

计算第一检测器元件和第二检测器元件的第一检测信号和第二检测信号的商S_Zpd/S_Epd，其中S_Zpd描述第二检测器元件的第二检测信号的时间平均值，S_Epd描述第一检测器元件的第一检测信号的时间平均值；以及

响应于商S_Zpd/S_Epd的变化，追溯到第二检测器元件的检测表面上的激光束的光斑大小的变化。

2.根据权利要求1所述的激光装置，其中，所述评估单元是控制单元的部分，评估单元被配置用于响应于商S_Zpd/S_Epd的变化来产生至少一个预定反应。

3.根据权利要求2所述的激光装置，其中，所述至少一个预定反应包括关闭所述源的操作或输出消息。

4.根据权利要求2或3所述的激光装置，其中，所述至少一个预定反应包括通过控制单元控制影响所述激光束的脉冲持续时间的所述激光装置的部件，具体地控制可控脉冲压缩器。

5.根据权利要求2或3所述的激光装置，其中，所述至少一个预定反应包括通过控制单元控制影响所述激光束的波前的所述激光装置的部件，具体地控制可控波片安排。

6.根据权利要求1-3中的任一项所述的激光装置，进一步包括：

-用于将所述激光束聚焦到待处理的物体上的聚焦光学器件，以及

-用于对所述激光束的焦点位置进行空间控制的焦点控制装置，其中，所述焦点控制装置包括至少一个横向控制元件，所述至少一个横向控制元件安排在源与聚焦光学器件之间的所述激光束的光束路径上，以用于对所述焦点位置进行空间横向控制，

其中，耦合输出点安排在所述源与所述至少一个横向控制元件之间的所述激光束的光束路径上，在所述耦合输出点处，从所述激光束耦合输出辐射以获得所述部分光束中的至少一个。

7.根据权利要求6所述的激光装置，进一步包括：

-扩束光学器件，所述扩束光学器件安排在所述源与所述至少一个横向控制元件之间的所述激光束的光束路径上，其中，所述耦合输出点安排在所述源与所述扩束光学器件之间的所述激光束的光束路径上。

8.根据权利要求1-3中的任一项所述的激光装置，进一步包括：

-用于将所述部分光束之一聚焦到所述检测器系统的检测器元件上的聚焦透镜，所述检测器元件根据所述双光子吸收原理起作用。