[实用新型]一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置有效

专利信息
申请号: 201822170436.1 申请日: 2018-12-24
公开(公告)号: CN209507842U 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 郝祥寿;陈袁培;李万亮 申请(专利权)人: 南京兆丰源环保科技有限公司
主分类号: C02F9/06 分类号: C02F9/06;C02F103/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 211300 江苏省南京市高淳*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 收集箱 过滤 除杂 印染废水深度处理 电化学装置 高级氧化 固定环 密封垫 密封盖 上端面 装配 本实用新型 转动柄 管道内部 环形侧面 组合安装 进水管 右端面
【说明书】:

实用新型提供一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置,包括过滤收集箱一、转动柄、过滤收集箱二、过滤收集箱三、除杂管道、密封垫、固定环以及密封盖,进水管右端面连接有除杂管道,除杂管道内部左侧安装有过滤收集箱一,过滤收集箱一右侧装配有过滤收集箱二,过滤收集箱二右侧装配有过滤收集箱三,过滤收集箱一环形侧面上侧固定有固定环,固定环上端面安装有密封垫,密封垫上端面装配有密封盖,密封盖上端面固定有转动柄,该设计解决了原有印染废水深度处理高级氧化电化学装置使用效果不佳的问题,本实用新型结构合理,便于组合安装,除杂效果好。

技术领域

本实用新型是一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置,属于废水处理设备技术领域。

背景技术

印染废水:以加工棉、麻、化学纤维及其混纺产品、丝绸为主的印染、毛织染整及丝绸厂等排出的废水。纤维种类和加工工艺不同,印染废水的水量和水质也不同。其中,印染厂废水水量较大,每印染加工1t纺织品耗水100~200t,其中80%~90%成为废水排出。印染废水具有水量大、有机污染物含量高、碱性大、水质变化大等特点,属难处理的工业废水之一,废水中含有染料、浆料、助剂、油剂、酸碱、纤维杂质、砂类物质、无机盐等。印染废水在进行处理时需要用到高级氧化电化学装置进行废水处理。

现有技术中,现有的印染废水深度处理高级氧化电化学装置在对印染废水中的物质进行电解处理时,会有一些杂质进入电反应池,杂质积累过多影响电化学反应装置处理效果,现在急需一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置来解决上述出现的问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置,以解决上述背景技术中提出的问题,本实用新型结构合理,便于组合安装,除杂效果好。

为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置,包括进水管、辅助除杂机构、蠕动泵、连接管、电解反应池以及出水管,所述进水管右侧设置有辅助除杂机构,所述进水管右侧安装有蠕动泵,所述蠕动泵右侧连接有连接管,所述连接管右端面安装有电解反应池,所述电解反应池右端面下侧连接有出水管,所述辅助除杂机构包括过滤收集箱一、转动柄、过滤收集箱二、过滤收集箱三、除杂管道、密封垫、固定环以及密封盖,所述进水管右端面连接有除杂管道,所述除杂管道内部左侧安装有过滤收集箱一,所述过滤收集箱一右侧装配有过滤收集箱二,所述过滤收集箱二右侧装配有过滤收集箱三,所述过滤收集箱一环形侧面上侧固定有固定环,所述固定环上端面安装有密封垫,所述密封垫上端面装配有密封盖,所述密封盖上端面固定有转动柄。

进一步地,所述过滤收集箱一左端面开设有进水口一,所述过滤收集箱二左端面开设有进水口二,所述过滤收集箱三左端面开设有进水口三。

进一步地,所述过滤收集箱一右端面开设有过滤孔一,所述过滤收集箱二右端面开设有过滤孔二,所述过滤收集箱三右端面开设有过滤孔三,且过滤孔一的直径大于过滤孔二的直径,过滤孔二的直径大于过滤孔三的直径。

进一步地,所述除杂管道上端面开设有柱形孔,且柱形孔内部设置有内螺纹,所述密封盖环形侧面下侧设置有外螺纹,所述密封盖与除杂管道通过螺纹相连接。

进一步地,所述除杂管道下端面安装有固定支架。

进一步地,所述转动柄外表面套设有软垫。

本实用新型的有益效果:本实用新型的一种印染废水深度处理高级氧化电化学装置,因本实用新型添加了过滤收集箱一、转动柄、过滤收集箱二、过滤收集箱三、除杂管道、密封垫、固定环以及密封盖,该设计能够有效的对进入电化学反应装置的废水进行除杂,解决了原有印染废水深度处理高级氧化电化学装置使用效果不佳的问题,提高了本实用新型的实用性。

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