[实用新型]电化学试片有效

专利信息
申请号: 201822143182.4 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN209589916U 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 林昕儒;曾柏元;陈思豪 申请(专利权)人: 五鼎生物技术股份有限公司
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26;G01N27/30
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 李小波;臧建明
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 绝缘隔片 电极系统 凹口 电化学试片 绝缘基板 第一电极结构 本实用新型 第二电极 反应区 测试样品 电极结构 覆盖电极 绝缘设置 断路区 覆盖 增设 暴露 配置
【权利要求书】:

1.一种电化学试片,其特征在于,包括:

绝缘基板;

电极系统,配置于所述绝缘基板上,其中所述电极系统包括第一电极结构以及第二电极结构,所述第一电极结构与所述第二电极结构彼此绝缘设置;

第一绝缘隔片,覆盖部分的所述电极系统,其中所述第一绝缘隔片的一端具有凹口,部分的所述电极系统暴露于所述凹口;以及

第二绝缘隔片,覆盖所述第一绝缘隔片,其中所述第一绝缘隔片的所述凹口与所述绝缘基板以及所述第二绝缘隔片构成反应区,其中在所述反应区中的所述电极系统靠近所述凹口底部具有断路区。

2.根据权利要求1所述的电化学试片,其特征在于,所述断路区位于所述第一电极结构。

3.根据权利要求2所述的电化学试片,其特征在于,所述第一电极结构包括:

前电极区段,包括所述第一电极结构自靠近所述凹口顶部延伸至所述断路区的区段;以及

后电极区段,包括所述第一电极结构自所述断路区延伸至靠近所述凹口底部的区段,

其中所述前电极区段与所述后电极区段之间的所述断路区的距离为第一距离,所述前电极区段与所述第二电极结构之间的最小电性距离为第二距离,所述后电极区段与所述第二电极结构之间的最小电性距离为第三距离,其中所述第三距离大于所述第一距离,所述第三距离大于所述第二距离。

4.根据权利要求3所述的电化学试片,其特征在于,所述第三距离大于或等于所述第一距离与所述第二距离之和。

5.根据权利要求3所述的电化学试片,其特征在于,所述第一距离大于所述第二距离。

6.根据权利要求5所述的电化学试片,其特征在于,所述第一距离大于或等于两倍的所述第二距离。

7.根据权利要求2所述的电化学试片,其特征在于,所述第一电极结构为参考电极,所述第二电极结构为工作电极。

8.根据权利要求2所述的电化学试片,其特征在于,所述第一电极结构为工作电极,所述第二电极结构为参考电极。

9.根据权利要求1所述的电化学试片,其特征在于,所述第二绝缘隔片包括通气孔,且所述通气孔于所述绝缘基板上的投影位于所述反应区内,其中所述通气孔于所述电极系统上的投影与所述断路区部分重叠或完全重叠。

10.根据权利要求1所述的电化学试片,其特征在于,所述断路区包括导电层。

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