[实用新型]一种用于制作超透镜的干涉光刻系统有效
| 申请号： | 201822127597.2 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN209248249U | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 叶红;胡贵林;叶燕 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B3/00 |
| 代理公司： | 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273 | 代理人： | 袁丽花 |
| 地址： | 215104 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透镜 光波调制 干涉光刻系统 单元设置 空间过滤 制备 本实用新型 表面结构 干涉图案 依次设置 波面 多环 光路 后焦 调制 光源 制作 聚焦 曝光 干涉 | ||
1.一种用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，包括光源、空间过滤单元、4F光学系统和光波调制单元，
空间过滤单元设置于4F光学系统之前，
所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一透镜和第二透镜，所述光波调制单元设置于所述第一透镜和第二透镜之间，该光波调制单元通过对子波面调制，在系统的后焦面上形成环形或圆形的干涉图案。
2.根据权利要求1所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，光波调制单元包括消0级光掩膜和位相光栅，位相光栅设置于第一透镜和消0级光掩膜之间。
3.根据权利要求2所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，所述位相光栅通过位移变化、和/或旋转实现对子波面光场调制。
4.根据权利要求2所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，空间过滤单元透光部分的中心位置与4F光学系统和位相光栅的关系为：
r＝λf1F0
其中，r为空间过滤单元透光部分的中心位置距系统光轴的距离，f1为第一透镜的焦距，F0为位相光栅空频。
5.根据权利要求2所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，
其中，F为干涉图案的空频，d为位相光栅与消0级光掩膜距离，F0为位相光栅空频，f2为第二透镜的焦距。
6.根据权利要求1所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，所述光源包括激光。
7.根据权利要求1所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，所述第一透镜和第二透镜为傅里叶变换透镜。
8.根据权利要求1所述的用于制作超透镜的干涉光刻系统，其特征在于，所述空间过滤单元为光阑、灰度掩模或可编程空间过滤单元。
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