[实用新型]一种多孔射流种植体活化亲水装置

说明书

本实用新型公开了一种多孔射流种植体活化亲水装置，属于口腔种植体活化领域，包括等离子体发生器、驱动机构、种植体和携带体；所述等离子体发生器包括内到外依次嵌套的均为类空心圆柱体的内电极、绝缘介质体、外电极和绝缘外壳；所述绝缘外壳内设有环绕外电极的圆柱空腔，绝缘外壳表面设有可从外界向圆柱空腔通气的通气管；所述圆柱空腔内设有若干个贯穿外电极、绝缘介质体和内电极上的贯穿孔，用于气体喷射；所述内电极中心可设有种植体；所述种植体可固定在携带体上；所述携带体可固定在驱动机构上；所述驱动机构用于驱动携带体自转。由于该结构，使放电等离子体处理种植体表面后，活性物质分布均匀，产生亲水性表面。

技术领域

本实用新型属于口腔种植体活化领域，具体地说涉及一种多孔射流种植体活化亲水装置。

背景技术

当前口腔种植修复广泛应用于口腔临床工作当中，已成为代替缺失天然牙的最流行的技术之一。目前大多数上市的种植体表面都是疏水性表面，而疏水性表面对种植体的骨整合并非最佳，亲水性种植体因其能优化骨整合过程，提高种植早期生物稳定性并扩大种植修复适应证，减少术后并发症，为患者提供了更加便捷，舒适的就诊体验，从而深受广大口腔工作者的青睐。

低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，等离子又被称为物质的第四态，是气体通过电离后形成的各种离子基团的集合。低温等离子体可通过释放大量羟基和氧自由基增加了材料表面亲水性，减少碳污染，不改变表面的结构，提高材料表面能和湿润性，促进表面的生物学反应（蛋白质吸附，细胞附着，细胞增殖和分化）和细胞反应，有利于种植体表面骨整合和血管形成，进一步提高种植体周围骨整合速度，缩短愈合时间。

目前，市场上需要一种能够利用低温等离子体使种植体表面产生亲水性的设备，等离子体本身具有抗菌性和直接促进种植体周围的生物学反应，有利于亲水性种植体的推广应用。

发明内容

本实用新型的目的是针对上述不足之处提供一种多孔射流种植体活化亲水装置，拟解决如何使放电等离子体处理的种植体表面形成均匀分布的活性物质，产生亲水性表面的问题。为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种多孔射流种植体活化亲水装置，包括等离子体发生器1、驱动机构2、种植体3和携带体4；所述等离子体发生器1包括内到外依次嵌套的均为类空心圆柱体的内电极11、绝缘介质体12、外电极13和绝缘外壳14；所述绝缘外壳14内设有环绕外电极13的圆柱空腔15，绝缘外壳14表面设有可从外界向圆柱空腔15通气的通气管16；所述圆柱空腔15内设有若干个贯穿外电极13、绝缘介质体12和内电极11的贯穿孔17，用于气体喷射；所述内电极11中心可设有种植体3；所述种植体3可固定在携带体4上；所述携带体4可固定在驱动机构2上；所述驱动机构2用于驱动携带体4自转。

由于上述结构，工作气体从通气管16通入圆柱空腔15，在圆柱空腔15的作用下形成均匀气层，然后被挤压进入紧密均布的贯穿孔17中，之后喷射向位于内电极11中心的种植体3，驱动机构2用于驱动携带体4自转，使表面均匀活化处理。工作气体一般为Ar、He等惰性气体与O2等辅助气体的混合物，特定条件下，也可采用空气充当工作气体；外电极13与内电极11之间施加高频电压，例如采用辉光放电形式，对挤压进入贯穿孔17中的工作气体行电离激发，从而产生活性物质（ROS、RNS）等；驱动电压形式可为高频交流电，脉冲直流、脉冲交流电，其中脉冲宽度为us级或以下（ns）;典型的使用形式为3~30kV，频率为20~50kHz的高频交流电。内电极11和外电极13可选为金属材料，例如：银、铜或银铜合金，典型使用材料为铜；内电极11和外电极13均可为阴阳极，或者一电极接地；绝缘介质体12的材料可选为聚四氟乙烯、聚酰亚胺、环氧树脂，典型使用材料为聚四氟乙烯; 内电极11外径为8~20m，例如采用12mm，壁厚为1~4mm，例如采用1.5mm；内电极11的空腔深度在可选在15~40mm，以适应不同长度的种植体3；外电极13外径在15~30mm，例如采用17mm,壁厚为1~4mm,例如采用1mm；内电极11、绝缘介质体12和外电极13可通过在柱面上设有螺纹孔,并穿有绝缘螺钉使三者装配成一体。