[实用新型]真空镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜装置，涉及真空镀膜技术领域。本实用新型包括镀膜机镀膜室，镀膜机镀膜室内壁底部固定有支架，支架顶端固定有下半球蒸发腔，下半球蒸发腔内表面固定有支撑夹具，镀膜机镀膜室内壁底部固定有抽真空泵，抽真空泵通过真空抽管与下半球蒸发腔连通，镀膜机镀膜室内壁顶部固定有升降机构。本实用新型通过上下半球型的蒸发腔设计，先装入基体工件，再闭合蒸发腔，通过在球形腔内设置靶材全方位蒸发镀膜，镀膜更加均匀，且多余蒸发材料又会重新附着于靶材表面，不仅减小材料损失，且不会造成蒸发腔污染，降低了生产成本和设备维护成本，提高设备镀膜腔使用寿命。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，特别是涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上，也称为物理气相沉积(PVD)。目前真空镀膜技术主要有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀这三种方法。

现有技术中真空镀膜设备对镀膜产品结构的局限性较大，在对具有复杂形状的镀膜产品进行镀膜时，其容易产生镀膜不均的情况或是无法对复杂形状镀膜产品的死角位置进行镀膜。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜装置，解决了现有真空镀膜设备对镀膜产品结构的局限性较大，容易产生镀膜不均或是无法对复杂形状镀膜产品的死角位置进行镀膜的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型为一种真空镀膜装置，包括镀膜机镀膜室，所述镀膜机镀膜室内壁底部固定有支架，所述支架顶端固定有下半球蒸发腔，所述下半球蒸发腔内表面固定有支撑夹具，所述镀膜机镀膜室内壁底部固定有抽真空泵，所述抽真空泵通过真空抽管与下半球蒸发腔连通，所述镀膜机镀膜室内壁顶部固定有升降机构，所述升降机构底端固定有上半球蒸发腔，所述下半球蒸发腔和上半球蒸发腔闭合形成球形蒸发腔。

进一步地，所述下半球蒸发腔和上半球蒸发腔外壁均围绕设置有电阻丝，所述下半球蒸发腔和上半球蒸发腔上的电阻丝相互对接形成闭合电路。

进一步地，所述升降机构包括液压杆、导套和导杆，所述液压杆两端分别与镀膜机镀膜室内壁顶部、上半球蒸发腔顶部固定连接，所述导套顶端与镀膜机镀膜室内壁顶部固定，所述导杆与导套滑动配合，所述导杆底端与上半球蒸发腔固定连接。

进一步地，所述支撑夹具顶端延伸至球形蒸发腔中心位置，所述支撑夹具用于装夹固定基体。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型通过上下半球型的蒸发腔设计，先装入基体工件，再闭合蒸发腔，通过在球形腔内设置靶材全方位蒸发镀膜，镀膜更加均匀，且多余蒸发材料又会重新附着于靶材表面，不仅减小材料损失，且不会造成蒸发腔污染，降低了生产成本和设备维护成本，提高设备镀膜腔使用寿命。

当然，实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型真空镀膜装置的结构示意图；

图2为真空镀膜装置下半球蒸发腔与上半球蒸发腔分离时的结构示意图。

附图中，各标号所代表的部件列表如下：