[实用新型]用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置

权利要求书

1.一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括清洗工位、管路系统和控制系统，

所述清洗工位用于放置待清洗的反应釜，

所述管路系统包括进水管、反应溶液输入管、输气管和排放管，

所述进水管的一端用于连接至清洗水源，另一端用于连接至所述反应釜的腔室，所述进水管上设置有供水泵，所述供水泵能够将所述清洗水源中的清洗水通过所述进水管输送至所述反应釜的腔室中，

所述反应溶液输入管的一端用于连接至用于盛放反应溶液的容纳装置，另一端用于连接至所述反应釜的腔室，所述反应溶液输入管上设置有供液泵，所述供液泵能够将所述反应溶液通过所述反应溶液输入管输送至所述反应釜的腔室中，所述反应溶液能够与氮化镓多晶和/或反应中间物反应以溶解所述氮化镓多晶和/或反应中间物，

所述输气管的一端用于连接至干燥气体源，另一端用于连接至所述反应釜的腔室，使得所述干燥气体源中的干燥气体能够通过所述输气管输送至所述反应釜的腔室而干燥所述腔室，

所述排放管的一端用于连接至所述反应釜的腔室，所述排放管上设置循环排放泵，所述循环排放泵能够将所述反应釜的腔室中的液体通过所述排放管排出，

所述控制系统用于控制所述清洗水、所述反应溶液、所述干燥气体的输送及所述反应釜的腔室中的液体的排放。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗工位包括第一清洗工位和第二清洗工位，

所述进水管包括第一进水管和第二进水管，

所述第一进水管的一端用于连接至作为所述清洗水的普通水、反渗透水或去离子水的清洗水源，另一端用于连接至位于所述第一清洗工位的所述反应釜的腔室，

所述第二进水管的一端用于连接至作为所述清洗水的去离子水的清洗水源，另一端用于连接至位于所述第二清洗工位的所述反应釜的腔室，

所述反应溶液输入管用于连接至位于所述第一清洗工位的所述反应釜的腔室，

所述输气管用于连接至位于所述第二清洗工位的所述反应釜的腔室，

所述排放管包括第一排放管和第二排放管，所述第一排放管用于将位于所述第一清洗工位的所述反应釜的腔室中的液体排出，所述第二排放管用于将位于所述第二清洗工位的所述反应釜的腔室中的液体排出。

3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述排放管包括废水排放管和反应溶液排放管，

所述废水排放管的一端用于连接至所述反应釜的腔室，另一端用于连接至废液排出口，使得能够将所述反应釜的腔室中的废水排出至所述废液排出口，

所述反应溶液排放管的一端用于连接至所述反应釜的腔室，另一端用于连接至所述容纳装置，所述循环排放泵能够将所述反应釜的腔室中的反应溶液排放回所述容纳装置。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述进水管、所述反应溶液输入管、所述输气管和所述排放管上均设置有用于通断控制的阀。

5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述进水管上设置水枪，和/或所述输气管上设置气枪。

6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述容纳装置中设置第一加热器，所述输气管上设置第二加热器。

7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗工位的上方设置喷淋系统，所述喷淋系统与所述进水管连接，所述喷淋系统用于清洗所述反应釜的内外壁，

所述喷淋系统包括喷头和喷淋板，所述喷头安装于所述喷淋板，所述喷淋板能够相对于所述清洗工位翻转。

8.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括排风系统，所述排风系统包括依次连通的进风口、排风通道和出风口，所述进风口设置于所述清洗工位的上方。

9.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括壳体，所述清洗工位、所述管路系统和所述控制系统设置于所述壳体中。

10.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述干燥气体为氮气，和/或所述反应溶液为氢氧化钾溶液。