[实用新型]一种用于化工设备的清洗装置有效
申请号: | 201821883548.5 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN209222816U | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 张绍涛 | 申请(专利权)人: | 纳派化学(上海)有限公司 |
主分类号: | B08B9/093 | 分类号: | B08B9/093 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201399 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固定基座 旋转基座 旋转电机 固定架 固定块 旋转轴 化工设备 清洗装置 旋转开关 喷水管 水枪 水箱 底座 水管 本实用新型 进水口连接 旋转轴顶端 表面设置 侧面连接 底部连接 水箱表面 外侧表面 活动块 进水口 连接杆 输出端 底端 内置 | ||
本实用新型公开了一种用于化工设备的清洗装置,包括底座、设置在底座上方的固定基座、位于固定基座底部的旋转基座;所述固定基座包括固定块、活动块;所述固定块设置在固定基座一侧,且固定块表面设置有水箱,所述水箱表面安装有进水口,所述进水口连接有水管,所述水管包括固定架、水枪;所述固定架设置在水箱一侧,所述固定架顶端侧面连接的连接杆内置有喷水管,所述喷水管底部固定连接有水枪,所述旋转基座包括旋转轴、旋转电机、旋转开关;所述旋转轴位于旋转基座中心位置,且旋转轴顶端与固定基座底部连接,所述旋转电机位于旋转基座内部,且旋转电机输出端与旋转轴底端连接,所述旋转开关位于旋转基座外侧表面。
技术领域
本实用新型涉及化工生产设备技术领域,具体为一种用于化工设备的清洗装置。
背景技术
人类与化工的关系十分密切,普及到生活的方方面面。在现代生活中,几乎随时随地都离不开化工产品,从衣、食、住、行等物质生活到文化艺术、娱乐等精神生活,都需要化工产品为之服务。有些化工产品在人类发展历史中,起着划时代的重要作用。它们的生产和应用,甚至代表着人类文明的一定历史阶段。在化工生产中,需要定期对各种化工设备进行维护和清洗,在清洗过程中需要水和清洗剂,同时由于化工原料和清洗剂大多是有毒害性能的,直接排放就会污染环境,因此必须对其进行净化处理。设备腔是化工设备中直接与化学产品接触的重要工具。设备腔在在使用完毕后,其内外表面会积累较多的化学试剂,如果不及时对其进行清洗,则会影响化学桶的下次。
现有的用于化工设备的清洗技术存在以下问题:现有对设备腔清洗的方式主要通过人工进行,人工通过刷子对其内表面进行刷洗,然而,人工清洗效率低,并且劳动强度大,清洗的不够干净且不彻底,影响清洗的效果,而且现有的用于化工设备的清洗,不能对设备腔进行很好的固定,而且固定较麻烦,清洗时设备腔容易移动,严重影响清洗的效率,而且不便于对不同尺寸的设备腔进行固定。因此,我们需要设计出一种可以提高化工设备清洗效率的清洗设备。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是传统的清洗装置采用人工清洗,劳动强度大,清洗效率低,且清洗过程中,对于设备腔不能保持固定,现提供一种用于化工设备的清洗装置,从而解决上述问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:
本实用新型提供一种用于化工设备的清洗装置,包括底座、设置在底座上方的固定基座、位于固定基座底部的旋转基座;所述固定基座包括固定块、活动块;所述固定块设置在固定基座一侧,且固定块表面设置有水箱,所述活动块设置在固定基座另一侧对应固定块的位置处,所述活动块下方设置有滑动槽,所述滑动槽表面设置有若干滑槽孔,所述滑槽孔呈均匀排列分布,且滑槽孔与限位块相匹配,所述水箱表面安装有进水口,所述进水口连接有水管,所述水管包括固定架、水枪;所述固定架设置在水箱一侧,固定架上安装有若干固定扣,所述固定扣与水管活动连接,所述固定架顶端侧面连接的连接杆内置有喷水管,所述喷水管底部固定连接有水枪,设置在水枪表面的喷水开关与控制器连接;所述旋转基座包括旋转轴、旋转电机、旋转开关;所述旋转轴位于旋转基座中心位置,且旋转轴顶端与固定基座底部连接,所述旋转电机位于旋转基座内部,且旋转电机输出端与旋转轴底端连接,所述旋转开关位于旋转基座外侧表面,且旋转开关与控制器电性连接。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述活动块包括限位块、活动卡块,所述限位块位于活动块内部一侧位置,且穿过活动块表面的开口,所述活动卡块位于限位块一侧,且活动卡块穿过活动块一侧面的通口,通过限位块使得活动块在滑动槽上可以固定柱,从而达到对需要清洗的化工设备的设备腔固定,提高设备腔的固定效果。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述活动卡块顶端设置有固定卡块,所述固定卡块呈倒“凹”型,且与位于活动块一侧面的通口活动连接,使得活动卡块在活动块侧面的通口处具有限位效果,有利于活动块根据需要对设备腔固定。
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