[实用新型]一种抛光液循环利用的化学机械抛光设备

说明书

本实用新型公开了一种抛光液循环利用的化学机械抛光设备，包括抛光箱，所述抛光箱底部上端固定连接有转盘，所述转盘的上端固定安装有抛光垫，所述转盘的下端固定连接有转动轴，所述转动轴穿过抛光箱，所述转动轴下端固定连接有联轴器，所述联轴器的下端固定安装有电机，所述电机的下端固定连接有底架，所述抛光液箱右端固定安装有抛光液箱出液口，所述抛光箱右端固定连接有增压泵，所述抛光液箱出液口和增压泵进口处设置有另一连接管，所述增压泵上端出口处固定连接有抛光液滴管。该抛光液循环利用的化学机械抛光设备，在现有的化学机械抛光设备的基础上，进行了添加抛光液循环利用的装置，避免抛光液的浪费，节约成本，结构简单方便操作。

技术领域

本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体为一种抛光液循环利用的化学机械抛光设备。

背景技术

化学抛光设备是一种将化学作用和机械作用相结合的抛光设备，首先工件表面材料与抛光液中的氧化剂、催化剂等发生化学反应，生成一层相对容易去除的软质层,然后在抛光液中的磨料和抛光垫的机械作用下去除软质层,使工件表面重新裸露出来，然后再进行化学反应,这样在化学作用过程和机械作用过程的交替进行中完成工件表面抛光。

随着制程技术的升级，导线与栅极尺寸的缩小，光刻技术对晶元表面的平坦程度的要求越来越高，而化学机械抛光是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术，因此化学机械抛光设备的出现必不可少，但是现有的化学机械抛光机存在抛光液不能重复利用的缺点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抛光液循环利用的化学机械抛光设备，以解决上述背景技术中提出抛光液不能重复利用的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种抛光液循环利用的化学机械抛光设备，包括抛光箱，所述抛光箱底部上端固定连接有转盘，所述转盘的上端固定安装有抛光垫，所述转盘的下端固定连接有转动轴，所述转动轴穿过抛光箱，所述转动轴下端固定连接有联轴器，所述联轴器的下端固定安装有电机，所述电机的下端固定连接有底架，所述底架的上端固定安装有抛光箱，所述抛光箱上端固定连接有支撑平台，所述支撑平台内贯穿连接有液压气缸，所述液压气缸下端伸缩杆固定连接有研磨体，所述底架前端固定连接有抛光液箱，所述抛光液箱前端的上方固定安装有加液口，所述抛光液箱左端固定连接有抛光液箱进液口，所述抛光箱左端的下方固定连接有抛光箱出液口，所述抛光液箱进液口和抛光箱出液口间设置有连接管，所述抛光液箱右端固定安装有抛光液箱出液口，所述抛光箱右端固定连接有增压泵，所述抛光液箱出液口和增压泵进口处设置有另一连接管，所述增压泵上端出口处固定连接有抛光液滴管。

优选的，所述转盘和抛光垫的直径小于抛光箱的宽度，且转盘和抛光垫的直径小于抛光箱的长度。

优选的，所述研磨体位于转盘的上方，且研磨体到转盘中心点的距离小于转盘的半径。

优选的，所述加液口的高度高于抛光液箱出液口的高度。

优选的，所述抛光箱出液口的最低点等于抛光箱内的最低点，且抛光箱出液口的高度高于抛光液箱进液口的高度。

优选的，所述抛光液滴管的最高点高于抛光箱的最高点，且抛光液滴管到转盘中心点的距离小于转盘的半径。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该抛光液循环利用的化学机械抛光设备，在现有的化学机械抛光设备的基础上，进行了添加抛光液循环利用的装置，抛光箱的设计，方便将使用后的抛光液收集在抛光箱内，然后从抛光箱的出口流入抛光液箱内，抛光液箱的另一端设置有抛光液的出口，抛光液从出口经抛光液滴管落在转盘上，抛光液形成一个循环流动的路线，避免抛光液的浪费，节约成本，结构简单方便操作。

附图说明

图1为本实用新型正面结构示意图；

图2为本实用新型侧面结构示意图；

图3为本实用新型俯面结构示意图；