[实用新型]下料装置和制药设备

说明书

本申请公开一种下料装置和制药设备。下料装置用于为洁净室中的料仓下料，所述下料装置包括转轴以及可绕所述转轴翻转的装袋部，所述装袋部包括具有袋夹的支撑部和下料部，所述装袋部定义有上料位置和绕所述转轴翻转形成的下料位置，当所述装袋部位于所述上料位置时，所述下料部位于所述支撑部上侧，当所述装袋部位于所述下料位置时，所述下料部位于所述支撑部下侧且位于所述料仓的上侧。所述下料装置的设计，降低了手套频繁抖动对洁净室环境产生的负面影响，而且通过结构设计，也避免了下料过程中下料装置接触料仓可能产生的污染。

技术领域

本申请涉及制药机械，尤其涉及下料装置和具有下料装置的制药设备。

背景技术

制药机械，相较于一般的机械设备有着更严格的洁净度要求，以防止药品在生产包装过程中被污染。但是，生产过程中不可避免要与各种外物接触，怎样最大限度地减小污染是相关业者一直在考虑的问题。例如，在西林瓶灌装设备上，洁净室的料仓中的瓶塞数量不足时，需要及时补充新的瓶塞。目前的方案主要是：将一包新的瓶塞袋放入洁净室，关门、自净、拆包，并通过洁净室上一体设置的手套，隔离地将包装袋举起并翻倒入料仓。然而，虽然只是手套在料仓上方抖动，还是给洁净室内带来了很多扰流，以及颗粒和接触污染的隐患。

因此，有必要改进以克服现有技术中存在的技术问题。

发明内容

本申请要解决的主要是料仓上方的抖动操作带来的扰流、颗粒和接触污染的隐患。

为解决上述技术问题，本申请提供了一种下料装置，用于为洁净室中的料仓下料，所述下料装置包括转轴以及可绕所述转轴翻转的装袋部，所述装袋部包括具有袋夹的支撑部和下料部，所述装袋部定义有绕所述转轴翻转形成的上料位置和下料位置，当所述装袋部位于所述上料位置时，所述下料部位于所述支撑部上侧，当所述装袋部位于所述下料位置时，所述下料部位于所述支撑部下侧且位于所述料仓的上侧。

根据本申请，所述下料装置的设计，降低了手套频繁抖动对洁净室环境产生的负面影响，并且通过结构设计，也避免了下料过程中下料装置接触料仓可能产生的污染。

附图说明

结合附图参阅以下具体实施方式的详细说明，将更加充分地理解本申请。其中：

图1显示本申请制药设备的俯视结构示意图；

图2显示本申请的下料装置的结构示意图；

图3显示本申请的下料装置在上料位置的结构示意图；

图4显示本申请的下料装置在下料位置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图1至图4，详细描述本申请的具体实施方式。本申请的具体实施方式提供了一种制药设备，包括洁净室300、置于所述洁净室300 内的料仓200以及下料装置100。所述下料装置100具体是药瓶灌装设备的瓶塞下料装置，所述瓶塞被预装于瓶塞袋(未图示)中并经由下料装置 100落入料仓200，经震荡锅500整理后，进入下游灌装设备。当然，下料装置100也可以应用于其他物品的下料。

所述下料装置100，用于为洁净室中的料仓200下料，包括被支座40 架起的转轴10以及可绕所述转轴10翻转的装袋部20，所述装袋部20包括具有袋夹2016的支撑部201和下料部203，所述装袋部20定义有绕所述转轴10翻转形成的上料位置P1和下料位置P2，当所述装袋部20位于所述上料位置P1时，所述下料部203位于所述支撑部201上侧，当所述装袋部20位于所述下料位置P2时，所述下料部203位于所述支撑部201 下侧且位于所述料仓200的上侧。这里所说的上侧下侧，不等同于上方下方的概念，更是物体在重力作用下形成的上下游关系。