[实用新型]一种真空镀膜机有效

专利信息
申请号: 201821726784.6 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN209323005U 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 黄子瀚 申请(专利权)人: 深圳市亨利莱科技有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/54
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518116 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 内部设置 镀膜仓 放置板 本实用新型 真空镀膜机 第一滑块 加热槽 镀膜 滑槽 壳体 转动 电机带动 顶端安装 壳体内部 导热柱 放置槽 均匀性 气化的 散热板 旋转轴 导出 两组 膜层 通孔 热带 传递 配合 保证
【说明书】:

实用新型公开了一种真空镀膜机,包括镀膜仓,所述镀膜仓内部的顶端安装有壳体,所述壳体内部底端的两侧皆安装有第一滑槽,所述第一滑槽的内部设置有与之互相配合的第一滑块,两组所述第一滑块连接有一加热槽,且加热槽的内部设置有放置板,所述放置板底部的两侧皆固定有支柱,所述放置板的底部安装有加热带,所述壳体的内部设置有多组通孔。本实用新型通过电机带动旋转轴转动,进而使放置槽转动,以增大气化的镀膜粉末与工件的接触面积,用以保证膜层厚度的均匀性,使镀膜的效果更好,且通过导热柱将镀膜仓内部的热量导出,并传递给散热板,增大了与空气的接触面积,有利于热量的散失。

技术领域

本实用新型涉及电镀设备技术领域,具体为一种真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机主要是指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等,在工件的表面镀膜,可以对其进行很好的保护,但现有的镀膜机不能使被镀膜的工件表面均匀形成薄膜,导致镀膜效果不好,且现有的镀膜机多采用水冷,冷却效果不好,且浪费水资源。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种真空镀膜机,包括镀膜仓,所述镀膜仓内部的顶端安装有壳体,所述壳体内部底端的两侧皆安装有第一滑槽,所述第一滑槽的内部设置有与之互相配合的第一滑块,两组所述第一滑块连接有一加热槽,且加热槽的内部设置有放置板,所述放置板底部的两侧皆固定有支柱,所述放置板的底部安装有加热带,所述壳体的内部设置有多组通孔,所述镀膜仓的内侧安装有第二滑槽,且第二滑槽的内部设置有多组第二滑块,所述镀膜仓的内部通过第二滑槽和第二滑块连接有放置槽,所述镀膜仓内部的底端安装有电机,所述电机的输出端设置有旋转轴,且旋转轴的顶部与放置槽底部的中间位置处相固定,所述镀膜仓的两侧皆从上至下依次设置有多组导热柱,所述导热柱的顶端连接有散热板,且散热板位于镀膜仓的上方,所述镀膜仓的底部设置有底座,所述底座的上方安装有U型架,所述U型架内侧的上方通过支撑架安装有风机,且风机位于散热板的上方。

优选地,所述导热柱的数目为三组,且导热柱的高度从上之下依次递增,所述导热柱呈“L”型结构,且导热柱与散热板皆为铝材质。

优选地,所述第二滑槽呈环形结构,所述放置槽呈圆柱体结构。

优选地,所述镀膜仓的正面设置有空隙,所述加热槽的正面固定有盖板,所述盖板位于空隙的外侧,且盖板的正面固定有拉手。

优选地,所述底座的顶部安装有真空泵,且真空泵的抽气口安装有延伸至镀膜仓内部的抽气管。

优选地,所述镀膜仓的正面设置有仓门,且仓门的一侧设置有把手。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过电机带动旋转轴转动,进而使放置槽转动,以增大气化的镀膜粉末与工件的接触面积,用以保证膜层厚度的均匀性,使镀膜的效果更好,且通过导热柱将镀膜仓内部的热量导出,并传递给散热板,增大了与空气的接触面积,有利于热量的散失,且风机对散热板进行吹风处理,带动空气流通,使散热效果更好,也不会对水资源造成浪费。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的主视图;

图3为本实用新型的局部结构侧视图;

图4为本实用新型第二滑槽与第二滑块的连接结构示意图;

图5为本实用新型加热槽的结构示意图。

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