[实用新型]离子阱用基座、离子阱有效
| 申请号： | 201821724000.6 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN208889606U | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 钟蠡;吴定柱;刘兴宝;雷天才;蒋家东;潘晓斌 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | H01J49/42 | 分类号： | H01J49/42 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 高俊 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 双曲面 离子阱 基座本体 槽体 极杆 四极杆 加工 通孔 本实用新型 产品成品率 线性离子阱 一体化加工 单独加工 环形均布 加工效率 通孔孔壁 通孔轴线 装配过程 条形槽 圆形孔 孔壁 条槽 贯通 | ||
【权利要求书】：
1.离子阱用基座，该基座用于双曲面线性离子阱，所述基座包括基座本体（1）及设置在基座本体（1）上的通孔（4），其特征在于，所述通孔（4）为圆形孔；
还包括设置于所述通孔（4）孔壁上的槽体（3），所述槽体（3）的数量为四条，且槽体（3）均为长度方向沿着所述通孔（4）轴线方向的条形槽，且四条槽体（3）环形均布于所述孔壁上；
各槽体（3）均贯通基座本体（1）的两端。
2.根据权利要求1所述的离子阱用基座，其特征在于，各槽体（3）的槽面均为光滑面。
3.离子阱，包括基座及固定于基座上的四根双曲面极杆（2），其特征在于，所述基座为权利要求1至2中任意一项所提供的基座，四根双曲面极杆（2）环形均布于所述通孔（4）中，且任意相邻的两双曲面极杆（2）之间均具有一槽体（3）；
各双曲面极杆（2）的外侧面均为等径圆弧面，且四个等径圆弧面各自所对半径值相等。
4.根据权利要求3所述的离子阱，其特征在于，各双曲面极杆（2）的外侧面与通孔（4）的孔壁之间均具有间隙，所述间隙的宽度值数值范围为：0.01~0.03mm。
5.根据权利要求3所述的离子阱，其特征在于，各双曲面极杆（2）均通过螺钉与基座本体（1）固定连接。
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