[实用新型]一种缓冲衬垫和缓冲装置有效
| 申请号： | 201821629516.2 | 申请日： | 2018-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN209382625U | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 包文强;吴琼 | 申请（专利权）人： | 重庆惠科金渝光电科技有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | B65D81/05 | 分类号： | B65D81/05;B65D85/30 |
| 代理公司： | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人： | 邢涛 |
| 地址： | 401320 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 缓冲衬垫 吸附结构 吸附 吸嘴 光滑平面 缓冲装置 机台 本实用新型 表面设置 吸附过程 显示面板 上表面 隔开 平整 失败 | ||
1.一种缓冲衬垫，其特征在于，包括：
主体，用于隔开显示面板；
定位吸附结构，设置在所述主体的表面上，用于供机台的吸嘴吸附；
所述定位吸附结构对应吸嘴的上表面为光滑平面。
2.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构的上表面面积大于所述吸嘴的真空吸附面积。
3.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构至少有两个。
4.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构呈对称分布。
5.如权利要求4所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述主体包括第一凹槽，用于设置所述定位吸附结构。
6.如权利要求5所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构的厚度小于第一凹槽的深度。
7.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述主体包括第二凹槽，所述第二凹槽为通槽，将所述主体打穿。
8.如权利要求7所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述第二凹槽对称分布。
9.一种缓冲衬垫，其特征在于，包括：
主体，用于隔开显示面板；
定位吸附结构，设置在所述主体的表面上，用于供机台的吸嘴吸附；
所述定位吸附结构对应吸嘴的上表面为光滑平面；
所述定位吸附结构的上表面面积大于所述吸嘴的真空吸附面积；
所述定位吸附结构至少有两个；
所述定位吸附结构呈对称分布；
所述主体包括第一凹槽，用于设置所述定位吸附结构；
所述定位吸附结构的厚度小于第一凹槽的深度。
10.一种缓冲装置，其特征在于，所述缓冲装置包括如权利要求1至9任意一项所述的缓冲衬垫。
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