[实用新型]一种石墨烯铜箔自动加工装置有效

专利信息
申请号: 201821583411.8 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN208810910U 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 黄伟 申请(专利权)人: 深圳市美星新材料科技有限公司
主分类号: B21D33/00 分类号: B21D33/00
代理公司: 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 代理人: 彭西洋;苏芳
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 罐体 边缘连接 混合管道 放置板 燃烧头 下层 氮气 自动加工装置 进料口 螺纹孔 石墨烯 铜片槽 铜箔 集合 上层 本实用新型 出气通道 罐体内部 螺纹连接 上下两层 外侧边缘 螺纹杆 通孔 开凿 体内 回收
【说明书】:

实用新型公开了一种石墨烯铜箔自动加工装置,包括罐体、混合管道、氮气通入通道、边缘连接圈、进料口、燃烧头、铜片槽集合和碎铜放置板,罐体分为上下两层,罐体的上层和罐体的下层的外侧边缘均固定设有边缘连接圈,边缘连接圈上均固定设有螺纹孔,边缘连接圈上的螺纹孔通过螺纹连接螺纹杆,罐体的上方连接有进料口,罐体上层的连接有出气通道,罐体的下层的一侧连接有氮气通入通道,罐体的下层穿进有混合管道,混合管道连接有燃烧头,混合管道固定设有若干个,罐体内部固定设有碎铜放置板,碎铜放置板上开凿有通孔,碎铜放置板设置在燃烧头的下侧,罐体内的底部固定设有铜片槽集合,该种实用新型可对回收的碎铜进行处理,便于下次继续利用。

技术领域

本实用新型涉及石墨烯生产领域,尤其涉及的是一种石墨烯铜箔自动加工装置。

背景技术

石墨烯专用压延铜箔,是以压延铜箔为基底材料,采用化学气相沉积法(CVD法),通过高温催化作用,在压延铜箔表面生成的石墨烯薄膜。这种石墨烯薄膜是迄今发现的高强度、高透光、高载流子迁移率和导热率,最薄、化学稳定性最好的纳米材料之一。在电子器件、透明电极材料、储能材料、功能复合材料等众多尖端技术领域具有广阔的应用前景。

以往的石墨烯铜箔在采取压延工艺时,会产生碎铜,不进行回收处理,会造成浪费,且以往处理不当,回收效果一般。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:提供可以回收碎铜,且进行处理的设备,尤其是一种石墨烯铜箔自动加工装置。

本实用新型的技术方案如下:一种石墨烯铜箔自动加工装置,包括罐体、混合管道、氮气通入通道、边缘连接圈、进料口、燃烧头、铜片槽集合和碎铜放置板,所述罐体分为上下两层,所述罐体的上层和罐体的下层的外侧边缘均固定设有边缘连接圈,所述边缘连接圈上均固定设有螺纹孔,所述边缘连接圈上的螺纹孔通过螺纹连接螺纹杆,所述罐体的上方连接有进料口,所述罐体上层的连接有出气通道,所述罐体的下层的一侧连接有氮气通入通道,所述罐体的下层穿进有混合管道,所述混合管道连接有燃烧头,所述混合管道固定设有若干个,所述罐体内部固定设有碎铜放置板,所述碎铜放置板上开凿有通孔,所述碎铜放置板设置在燃烧头的下侧,所述罐体内的底部固定设有铜片槽集合,所述铜片槽集合由若干个铜片槽组成,所述铜片槽上开凿有铜水出口。

优选地,所述进料口的上方螺纹连接有封盖。

优选地,所述出气通道连接有输气管道。

优选地,所述罐体的下方固定设有支撑脚。

优选地,所述罐体内的氮气通入通道上方固定设有挡板。

优选地,所述边缘连接圈之间的缝隙通过密封胶进行粘接封口,所述混合管道、氮气通入通道、出气通道和进料口与罐体之间连接的缝隙通过密封胶进行粘接封口。

采用上述方案,本实用新型有益效果是:

本实用新型主要采用了燃烧头喷出的乙炔焰将碎铜进行了融化,且通入的氮气防止了被氧气氧化,融化后的铜水滴落到铜片槽集合,被一层一层的填满了薄薄的铜片槽内,其中热气通过输气管道可以将高热量的气体通入到压延过程中的缝隙之间,用于软化铜,提高产品良品率,打开罐体,取出铜片槽集合,分离后,取出铜片即可,之后再在压延设备上进行加工,即可得到需要的铜箔。

附图说明

图1为本实用新型一种石墨烯铜箔自动加工装置外部的结构示意图;

图2为本实用新型一种石墨烯铜箔自动加工装置内部的结构示意图;

图3为本实用新型一种石墨烯铜箔自动加工装置中铜片槽集合的结构示意图;

图4为本实用新型一种石墨烯铜箔自动加工装置中铜片槽的结构示意图;

图5为本实用新型一种石墨烯铜箔自动加工装置中碎铜放置板的结构示意图。

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