[实用新型]一种间距检测装置

说明书

本实用新型公开了一种间距检测装置，应用于磁控物理气相沉积装置，磁控物理气相沉积装置包括用于产生磁场的一磁铁和用于装载靶材的一承载板；其中，间距检测装置包括量测主体、滑块、测量表和支架，量测主体套设于滑块内与滑块滑动连接，测量表固定设置在支架上，支架与滑块固定连接使得测量表的延伸方向与量测主体的所在平面垂直；其中，测量表为百分表；与现有技术相比，本实用新型通过改进间距检测装置的结构简化了测量的操作步骤，具有较大的测量范围，较小的测量误差，且具备较强的实用性。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工设备技术领域，尤其涉及一种用于测量磁控物理气相沉积装置的靶材与磁力源之间的间距的间距检测装置。

背景技术

在PVD(Physical Vapor Deposition物理气相沉积，简称PVD)镀膜工艺中，有一项重要的指标参数需要进行精确测量，该指标参数为磁力源到靶面的间距，如图1所示，间距A即为磁力源到靶材的靶面的间距。在现有技术中，测量磁力源到靶面的间距一般通过一测量工具完成，该测量工具由量测主体和测量部件组成，测量部件为游标卡尺，量测主体与测量部件为一整体结构，量测主体可以相对测量部件变换工作姿态。如图2所示，该测量工具测量间距A的原理是，首先用量测主体上下对准磁力源的上表面和靶材的上表面，然后利用游标卡尺测量磁力源上表面与靶材上表面的间距对应在量测主体上的距离，得到一间距H，然后以同样的方式测得靶材本身的高度h，最后计算H与h之差得到间距A。

上述的测量方法虽然结构简单，使用成本较低，但存在精度不高的技术问题，而且，在每一次测量过程中均需要调整量测主体的初始位置以与靶材的上表面齐平，影响了测量的便利性。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种测量精度高、操作简单灵活的，并且具备较大测量范围的一种间距检测装置。

本实用新型解决其技术问题采取的技术方案是，提供一种间距检测装置，应用于磁控物理气相沉积装置，所述磁控物理气相沉积装置包括用于产生磁场的一磁力源和用于装载靶材的一承载板；

其中，所述间距检测装置包括量测主体、滑块、测量表和支架，所述量测主体套设于所述滑块内与所述滑块滑动连接，所述测量表固定设置在所述支架上，所述支架与所述滑块固定连接使得所述测量表的延伸方向与所述量测主体的所在平面垂直；

其中，所述测量表为百分表。

作为本实用新型的一种优选方案，所述支架包括用于固定连接所述滑块的一第一连接结构；

所述第一连接结构包括用于连接所述滑块的上表面的一第一面，以及用于连接所述滑块的侧面的一第二面。

作为本实用新型的一种优选方案，所述支架还包括用于固定所述支架的一第二连接结构；

所述第二连接结构使得固定的所述测量表与所述滑块的侧壁具有一预设距离。

作为本实用新型的一种优选方案，所述量测主体为条状结构，所述量测主体的两端的底部位置分别固定设置有一相同的标准块。

作为本实用新型的一种优选方案，所述标准块的底部低于所述滑块的底部。

作为本实用新型的一种优选方案，每一个所述标准块均通过螺丝固定安装在所述量测主体上。

作为本实用新型的一种优选方案，所述滑块与所述支架通过螺丝相互固定。

作为本实用新型的一种优选方案，所述测量表通过螺丝固定设置在所述支架上。

作为本实用新型的一种优选方案，所述量测主体的上下两个表面均设置有刻度线。

作为本实用新型的一种优选方案，所述测量表为百分表。