[实用新型]一种用于高功率半导体直接输出激光器的摆动送粉装置有效
申请号: | 201821489725.1 | 申请日: | 2018-09-12 |
公开(公告)号: | CN208748202U | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 姜涵之;冯丹西;冯海荣 | 申请(专利权)人: | 山西鑫盛激光技术发展有限公司 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10 |
代理公司: | 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 | 代理人: | 冷锦超;吴立 |
地址: | 048400 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 送粉管 摆动 凸轮轴 高功率半导体 输出激光器 送粉装置 连接板 本实用新型 电机 摆动机构 激光设备 加工装置 光斑 摆动幅度 摆动频率 工件表面 激光器 可调节 输出端 熔覆 应用 | ||
本实用新型公开了一种用于高功率半导体直接输出激光器的摆动送粉装置,属于激光设备加工装置领域;所要解决的技术问题是提供了一种可调节摆动幅度和摆动频率,确保送粉管在光斑长度方向上进行均匀摆动,确保工件表面熔覆的连续、均匀;解决该技术问题采用的技术方案为:一种用于高功率半导体直接输出激光器的摆动送粉装置,包括送粉管,送粉管上部设置有连接板,连接板上方设置有激光器,送粉管一侧设置摆动机构,摆动机构包括电机和凸轮轴,电机的输出端与凸轮轴相连,电机底部与连接板相连,凸轮轴与送粉管相接触;本实用新型可广泛应用于激光设备加工装置领域。
技术领域
本实用新型一种用于高功率半导体直接输出激光器的摆动送粉装置,属于激光设备加工装置技术领域。
背景技术
激光熔覆技术是一种新能源条件下的新兴表面加工技术,自诞生以来一直都在不断的进步和完善中,其中推动激光熔覆技术进步的主要原因之一就是作为热源的激光器的不断发展与进步,到现在为止,激光器已经从气体激光器发展到了半导体激光器,目前工业化应用中的主流激光器类型为半导体直接输出激光器,随着半导体直接输出激光器的不断成熟,为了追求更高的激光熔覆加工效率,半导体直接输出激光器的功率也一直在增加,从早期的2000—4000W级,到目前市场上主流的6000—8000W级,再到已经开始应用的10000W以上级。
激光熔覆加工的过程是激光从激光头上的出射窗口直接射出,在工作距离处照射在待加工工件的表面形成熔池,同时由送粉管将合金粉末以特定的角度喷送进熔池,合金粉末在熔池中与工件母材一起熔化形成新的合金组织,最终在工件表面形成预期的合金熔敷层,由于上述过程是一个急冷急热的微熔炼过程,因此要求合金粉末要尽可能的均匀分布的送进熔池,熔池的形状和激光照射在工件的光斑形状基本一致,而由于半导体直接输出激光器的功率不断增加,传统的送粉方式送粉均匀性差,影响激光熔覆的加工质量,具体有以下缺陷:半导体直接输出激光器的光源特性及光学整形原理决定了其输出在工作距离处的光斑的形状必定是近似的长方形,且光斑的长度会随着激光器的功率增加而增加,传统的送粉管的出粉口一般是做成一条窄长的细缝,细缝的长度与光斑的长度基本一致,而合金粉末在喷出送粉管时受到细缝的束缚形成一条细长的粉带落入熔池中,在光斑长度变化时,会导致均匀性越来越差,这就直接影响了激光熔覆的加工质量。
实用新型内容
本实用新型克服了现有技术存在的不足,提供了一种可调节摆动幅度和摆动频率,确保送粉管在光斑长度方向上进行均匀摆动,确保工件表面熔覆的连续、均匀。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种用于高功率半导体直接输出激光器的摆动送粉装置,包括送粉管,送粉管上部设置有连接板,连接板上方设置有激光器,送粉管一侧设置摆动机构,摆动机构包括电机和凸轮轴,电机的输出端与凸轮轴相连,电机底部与连接板相连,凸轮轴与送粉管相接触。
所述的送粉管与连接板之间设置有连接轴。
所述的连接板上设置有电机位置调节槽,所述的电机与连接板之间设置有锁紧装置。
所述的凸轮轴前端与连接板底部距离为100mm。
本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果。
1、通过电机与凸轮轴的组合,确保送粉管在光斑长度方向上进行均匀摆动,可以采用更小的送粉管出口,使得送出的合金粉末更加的集中,在摆动过程中,每个瞬间的熔池中的某点所对应的送粉状态都趋于一致,不会出现传统送粉方式的粉带覆盖熔池时出现的各点粉末不一致的现象。
2、结构简单,使用效果好,能够均匀的进行送粉,比传统送粉方式所形成的熔覆层的熔覆质量高。
附图说明
下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。
图1为本实用新型的结构示意图。
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