[实用新型]一种用于晶体外缘的打磨装置有效
申请号: | 201821429048.4 | 申请日: | 2018-09-01 |
公开(公告)号: | CN208841091U | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | 黄晓霞 | 申请(专利权)人: | 福州腾企光电有限公司 |
主分类号: | B24B9/06 | 分类号: | B24B9/06;B24B41/06;B24B47/22 |
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地址: | 350000 福建省福州市仓*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 打磨 打磨装置 活动安装 活动块 固定块 滑动柱 滑槽 底座 设备技术领域 本实用新型 背面固定 晶体加工 固定板 移位 紧固 载板 加工 | ||
本实用新型涉及晶体加工设备技术领域,且公开了一种用于晶体外缘的打磨装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有固定块,所述固定块的顶部开设有滑槽,所述滑槽的内部活动安装有滑动柱,所述滑动柱的顶部固定安装有载板,所述载板的顶部开设有第一凹槽,所述第一凹槽的内部活动安装有活动块,所述活动块的顶部开设有第二凹槽,所述活动块的顶部且位于第二凹槽的背面固定安装有固定板,所述第二凹槽的内部活动安装有限位板。该用于晶体外缘的打磨装置,使待打磨晶体固定更紧固,防止在晶体外缘打磨过程中,出现因晶体发生移位而导致晶体打磨效果差的情况,极大的提高了晶体外缘的打磨加工效果。
技术领域
本实用新型涉及晶体加工设备技术领域,具体为一种用于晶体外缘的打磨装置。
背景技术
晶体是由大量微观物质单位按一定规则有序排列的结构,因此可以从结构单位的大小来研究判断排列规则和晶体形态,晶体按其结构粒子和作用力的不同可分为四类,离子晶体、原子晶体、分子晶体和金属晶体,在晶体加工中需要用到打磨设备对晶体外缘进行打磨,使晶体外缘保持平滑。
传统的晶体外缘的打磨装置由于结构原因在进行晶体外缘打磨时,经常会出现晶体固定不稳定而移位的情况,从而导致晶体打磨效果较差,故而提出一种用于晶体外缘的打磨装置来解决上述提出的问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于晶体外缘的打磨装置,具备打磨效果好等优点,解决了传统的晶体外缘的打磨装置由于结构原因在进行晶体外缘打磨时,经常会出现晶体固定不稳定而移位的情况,从而导致晶体打磨效果较差的问题。
(二)技术方案
为实现上述打磨效果好的目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于晶体外缘的打磨装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有固定块,所述固定块的顶部开设有滑槽,所述滑槽的内部活动安装有滑动柱,所述滑动柱的顶部固定安装有载板,所述载板的顶部开设有第一凹槽,所述第一凹槽的内部活动安装有活动块,所述活动块的顶部开设有第二凹槽,所述活动块的顶部且位于第二凹槽的背面固定安装有固定板,所述第二凹槽的内部活动安装有限位板,所述载板的左侧插接有一端延伸至第一凹槽内部并与活动块活动连接的第一摇杆,所述第一摇杆的左侧固定安装有第一摇把,所述活动块的正面插接有一端延伸至第二凹槽内部并与限位板活动连接的第二摇杆,所述第二摇杆的底部固定安装有第二摇把,所述滑动柱的表面且位于固定块的上方套接有推杆,所述底座的顶部且位于固定块的左侧固定安装有支架,所述支架的顶部插接有一端贯穿支架的转轴,所述转轴的顶部固定安装有压板,所述转轴的顶部固定安装有转盘,所述转盘顶部的左侧固定安装有转柄,所述底座的顶部且位于固定块的右侧固定安装有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的顶部固定安装有防护罩,所述防护罩的内部固定安装有电机,所述电机的输出轴固定安装有一端贯穿防护罩内壁顶部的打磨轴,所述打磨轴的表面套接有打磨盘。
优选的,所述底座的底部活动安装有滚轮,所述滚轮的数量为四个,且滚轮分布于底座的底部四角。
优选的,所述第一摇把与第二摇把的表面均固定安装有增阻筋条,所述第一摇杆与第二摇杆分别与载板和活动块螺纹连接。
优选的,所述支架呈L形,所述推杆的表面套接有橡胶套,所述压板的底部粘接有海绵垫。
优选的,所述防护罩的顶部固定安装有位于打磨盘外部的安全罩,所述安全罩的左侧开设有打磨盘通过的通孔。
优选的,所述载板的正面固定安装有防护板,所述防护板为透明强化玻璃,所述防护罩的左侧开设有通口,所述通口的内壁固定安装有出气格栅。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种用于晶体外缘的打磨装置,具备以下有益效果:
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