[实用新型]一种化学水浴沉积镀膜装置

权利要求书

1.一种化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，包括反应装置、第一伸缩机构和第二伸缩机构，所述第一伸缩机构和所述第二伸缩机构均支撑于所述反应装置的底部并且相对设置，用于交替伸缩以带动所述反应装置摆动。

2.根据权利要求1所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述化学水浴沉积镀膜装置还包括基座，所述反应装置安装在所述基座上，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构均支撑于所述基座的底部，用于通过所述基座带动所述反应装置摆动。

3.根据权利要求2所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述基座为矩形基座，所述矩形基座包括相对的第一边和第二边，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构的数量均为多个，多个所述第一伸缩机构沿所述第一边均匀分布，多个所述第二伸缩机构沿所述第二边均匀分布。

4.根据权利要求2所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述第一伸缩机构包括第一驱动装置和第一伸缩杆，所述第一伸缩杆的伸出端与所述基座连接，所述第一驱动装置用于驱动所述第一伸缩杆伸缩；

所述第二伸缩机构包括第二驱动装置和第二伸缩杆，所述第二伸缩杆的伸出端与所述基座连接，所述第二驱动装置用于驱动所述第二伸缩杆伸缩。

5.根据权利要求1所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构均为气缸。

6.根据权利要求1所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述反应装置相对于水平面的摆动角度小于等于10°。

7.根据权利要求1-6任一项所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述反应装置包括加热板、围挡和反应盖，所述加热板用于固定待沉积件；

所述围挡的底部与所述待沉积件的镀膜面密封连接，所述反应盖盖设在所述围挡的顶部并与所述围挡和所述待沉积件的镀膜面围成用于容纳反应药液的空间；或

所述围挡的底部与所述加热板密封连接，所述反应盖盖设在所述围挡的顶部并与所述围挡和所述加热板围成用于容纳反应药液和待沉积件的空间。

8.根据权利要求7所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，所述加热板上设有多个吸附孔，多个所述吸附孔均与抽气管路连接，多个所述吸附孔用于吸附固定待沉积件。

9.根据权利要求8所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，多个所述吸附孔在所述加热板上等间距均匀分布。

10.根据权利要求9所述的化学水浴沉积镀膜装置，其特征在于，相邻所述吸附孔之间的间距为25～30厘米，所述吸附孔的孔径为2～4mm。