[实用新型]光学元件位相型缺陷测量装置有效
| 申请号： | 201821361664.0 | 申请日： | 2018-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN208705241U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 李杰;许乔;李亚国;巴荣声;张霖;周信达;郑垠波;丁磊;柴立群 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学元件 位相型 缺陷测量装置 光源 显微放大系统 本实用新型 分光系统 光束传播 探测系统 可测量 样品台 | ||
1.一种光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于包括激光光源(1)，沿该激光光源(1)光束的传播方向依次是样品台(2)、显微放大系统(3)、分光系统(4)和探测系统(5)；
所述的激光光源(1)提供准平行光；
所述的样品台(2)供待测光学元件(6)置放及其位置及角度调节，使所述的待测光学元件(6)处于所述的显微放大系统(3)的物方视场上；
所述的显微放大系统(3)用于放大待测光学元件(6)的测试区域；
所述的分光系统(4)包括光栅(401)，所述的光栅(401)置于光栅位移控制台(402)上并处于所述的显微放大系统(3)和探测器(5)之间；
所述的探测系统(5)包括探测器(501)，所述的探测器(501)置于探测器位移控制台(502)上并处于所述的分光系统(4)后方。
2.根据权利要求1所述的光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于所述的显微放大系统(3)是由放大倍率不同的物镜和目镜组成，圆形光源照明时，其物方分辨率Ro由激光光源(1)的波长λ和物镜的数值孔径NA按下式确定，
Ro＝0.61λ/NA。
3.根据权利要求1所述的光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于所述的光栅(401)的周期为T，光栅(401)与探测器(501)之间的距离为z，横向平移量S由下列公式确定：
S＝λz/T。
4.根据权利要求1所述的光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于所述的光栅(401)是振幅光栅、相位光栅、振幅光栅与相位光栅的组合结构，或其他光栅。
5.根据权利要求1所述的光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于所述的探测器(501)是照相机、CCD、CMOS图像传感器、PEEM、或二维光电探测器阵列。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821361664.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无油衬套检测装置
- 下一篇：一种毛刺检测机构
